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公开(公告)号:WO2022169307A1
公开(公告)日:2022-08-11
申请号:PCT/KR2022/001773
申请日:2022-02-04
Applicant: 주식회사 엘지화학
Abstract: 본 발명은 실록산계 고분자 및 1 이상의 반응성 작용기를 측쇄에 포함하는 (메트)아크릴레이트 고분자를 포함한 고분자 매트릭스를 포함하는 홀로그램 형성용 포토폴리머 조성물, 홀로그램 기록 매체, 및 광학 소자 에 관한 것이다.
公开(公告)号:WO2022169307A1
公开(公告)日:2022-08-11
申请号:PCT/KR2022/001773
申请日:2022-02-04
Applicant: 주식회사 엘지화학
Abstract: 본 발명은 실록산계 고분자 및 1 이상의 반응성 작용기를 측쇄에 포함하는 (메트)아크릴레이트 고분자를 포함한 고분자 매트릭스를 포함하는 홀로그램 형성용 포토폴리머 조성물, 홀로그램 기록 매체, 및 광학 소자 에 관한 것이다.