公开(公告)号：WO2010011114A2

公开(公告)日：2010-01-28

申请号：PCT/KR2009/004163

申请日：2009-07-27

Applicant: 주식회사 코미코 ,  재단법인 철원플라즈마 산업기술연구원 ,  김형인 ,  서준호 ,  황철호 ,  장재훈

Inventor： 김형인 ,  서준호 ,  황철호 ,  장재훈

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C23C24/04

Abstract: 플라즈마 내성이 향상된 세라믹 코팅막 형성 장치는 세라믹 분말 제공부, 정량 공급부, 분산 유닛, 분출 유닛을 포함한다. 상기 세라믹 분말 제공부는 세라믹 분말을 수용하고, 상기 정량 공급부는 균일하게 응집된 세라믹 분말을 형성한다. 상기 분산 유닛은 상기 응집된 세라믹 분말을 분쇄 및 분산시켜 에어로졸을 형성하고, 상기 분출 유닛은 피 코팅체에 상기 에어로졸을 고속 분출하여 상기 피 코팅체 표면에 기공 함량이 1% 이하인 세라믹 코팅막을 형성한다.

Abstract translation:

等离子体性提高陶瓷涂层膜形成设备包括一个陶瓷粉末供给部，供给量，分散单元，所述喷射单元。 陶瓷粉末供应部分接收陶瓷粉末，定量供应部分形成均匀凝聚的陶瓷粉末。 分散部通过研磨和聚集的陶瓷粉末分散，以形成气雾剂，其中所述喷射单元是在所述待涂覆的部件表面，以在皮肤上的涂装体的气溶胶的高速喷射孔内容到陶瓷涂层的1％或更少形成 。

公开(公告)号：WO2010011113A2

公开(公告)日：2010-01-28

申请号：PCT/KR2009/004160

申请日：2009-07-27

Applicant: 주식회사 코미코 ,  재단법인 철원플라즈마 산업기술연구원 ,  황철호 ,  장재훈 ,  서준호 ,  김형인

Inventor： 황철호 ,  장재훈 ,  서준호 ,  김형인

IPC: C23C24/04

CPC classification number: C23C28/042 ,  C23C30/00 ,  H01J37/32477

Abstract: 플라즈마 처리장치에 적용되는 내 플라즈마 특성이 향상된 세라믹 코팅체가 개시되어 있다. 상기 세라믹 코팅체는 플라즈마 처리장치에 적용되는 피 코팅체 및 상기 피 코팅체 표면에 형성되며 800W 파워에서 형성된 플라즈마에 대하여 13 내지 25nm/min의 부식속도를 갖고, 기공의 함유율이 0.1 내지 1%인 세라믹 코팅막을 포함하는 구성을 갖는다. 이러한 구성을 갖는 세라믹 코팅체는 플라즈마에 장시간 노출되어도 그 표면 손상이 충분히 감소될 수 있다.

Abstract translation: 公开了一种具有改进的等离子体电阻的等离子体处理装置的陶瓷涂层。 陶瓷涂层形成在施加到等离子体处理装置和物质表面上的物质上。 此外，陶瓷涂层在800W功率下形成的等离子体具有13-25nm / min的腐蚀速率，并且包括具有0.1-1％孔隙率的陶瓷涂层膜。 因此，如上所述，陶瓷涂层的表面损伤即使在长时间暴露于等离子体中也能够降低。

公开(公告)号：WO2010027211A2

公开(公告)日：2010-03-11

申请号：PCT/KR2009/005011

申请日：2009-09-04

Applicant: 주식회사 코미코 ,  재단법인 철원플라즈마 산업기술연구원 ,  황철호 ,  김형인 ,  서준호

Inventor： 황철호 ,  김형인 ,  서준호

IPC: B05D1/02

CPC classification number: B01J2/18

Abstract: 개시된 코팅 방법 및 장치는 진동에 의해 30 내지 5,000㎚의 평균 입경을 갖는 분말을 응집시켜 상기 분말을 1 내지 20㎛의 평균 입경을 갖는 그레뉼로 형성하고, 회전에 의해 상기 그레뉼을 파쇄시켜 상기 그레뉼을 30 내지 5,000㎚의 평균 입경을 갖는 코팅용 분말로 형성한 후, 상기 코팅용 분말을 용사재로 사용하는 대기 플라즈마 용사 코팅 공정을 수행하여 모재를 코팅시킨다.

Abstract translation: 本发明涉及涂布方法和涂布装置，其通过振动使平均粒径为30〜5000nm的粉末凝固，从而将粉末形成为平均粒径为1〜20μm的颗粒，粉碎颗粒 通过旋转将颗粒形成平均粒径为30至5000nm的涂层粉末，并使用涂覆粉末作为喷涂材料涂覆基材进行大气等离子体喷涂。

公开(公告)号：WO2010011116A2

公开(公告)日：2010-01-28

申请号：PCT/KR2009/004166

申请日：2009-07-27

Applicant: 주식회사 코미코 ,  재단법인 철원플라즈마 산업기술연구원 ,  황철호 ,  서준호 ,  김형인

Inventor： 황철호 ,  서준호 ,  김형인

IPC: B32B27/06

CPC classification number: C23C24/04

Abstract: 개선된 내 플라즈마 특성을 갖는 세라믹 코팅막의 형성 방법에서, 세라믹 분말은 0.1 내지 1.0um의 입경을 갖도록 분산되며, 상기 분산된 세라믹 분말은 코팅 대상체의 표면으로 고속 분사된다. 상기 세라믹 분말은 상기 코팅 대상체에 증착되며, 이에 따라 상기 코팅 대상체 상에 약 0.1 내지 1% 정도의 기공율을 갖는 세라믹 코팅막이 형성된다.

Abstract translation: 在形成具有改善的耐等离子体性的陶瓷涂膜的方法中，将陶瓷粉末分散以具有0.1至1.0μm的粒径，并且将分散的陶瓷粉末高速注入涂覆物体的表面 。 将陶瓷粉末沉积在涂层物体上，由此在涂层物体上形成孔隙率为约0.1至1％的陶瓷涂层。