Abstract:
본 발명은 그래핀 기판 상에 나노물질이 적층되어 있는 3차원 나노구조체에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 환원된 그래핀 필름 상에 나노튜브(nanotube), 나노선(nanowire), 나노로드(nanorod), 나노니들(nanoneedle) 및 나노입자(nanoparticle) 중 어느 하나이상의 나노물질이 성장되어 있는 3차원 나노구조체 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 1차원의 나노물질과 2차원의 그래핀을 혼성시킨 3차원 나노구조체를 제조하여 이들의 시너지 효과를 얻을 수 있게 한다. 본 발명에 따른 나노구조체는 유연성과 신축성이 우수하며, 비평면적인 표면을 포함하는 어느 기판에도 쉽게 옮겨낼 수 있고, 나노물질, 금속촉매, 그래핀 필름 시스템 내의 모든 접합이 오믹 전기 접합(ohmic electrical contact)을 이루어져 전계 방출 디바이스(Field-emitting device)에 쉽게 통합될 수 있어 유용하다.
Abstract:
본 발명은 인지, 기억, 학습, 연산, 추론 등의 고차원의 기능을 수행하는 인간의 신경계 구조 및 기능을 모방하는 전자 소자인 뉴로모픽 소자에 관한 것으로, 본 발명에 따른 뉴로모픽 소자는 자기조립 구조, 특히 블록 공중합체의 자기조립 구조에 대응하는 나노 패턴을 포함하여, 시냅스가 병렬적으로 연결되어 있으며 무작위로 위치하고, 시냅스 발현이 확률적으로 발생하여 신경계적 특성이 구현되는 뉴로모픽 소자에 관한 것이다.
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크기 조절이 가능한 단분산성 나노입자 어레이 제조방법, 이에 의하여 제조된 나노입자 어레이와 그 응용이 제공된다. 본 발명에 따른 나노입자 어레이 제조방법은 상기 블록공중합체를 자기조립시키는 단계; 상기 자기조립된 블록공중합체 중 제 1 중합체와 상기 증착시키고자 하는 나노입자의 금속이온을 정전기적인 상호작용에 의하여 선택적으로 결합시키는 단계; 및 상기 블록공중합체를 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하며, 본 발명에 따르면 단분산성의 나노입자 어레이를 블록공중합체 리쏘그래피 방식으로 증착시킬 수 있다. 또한 금속이온의 로딩 시간에 의하여 나노입자 크기를 간단히 제어할 수 있으므로, 촉매 등의 다양한 응용소자에 효과적으로 적용될 수 있다.
Abstract:
무기-나노구조체 복합소재 제조방법, 이를 이용한 탄소나노튜브 복합체 제조 방법 및 이에 의하여 제조된 탄소나노튜브 복합체가 제공된다. 본 발명에 따른 무기-나노구조체 복합소재 제조방법은 나노구조체에 5가 원소를 도핑하는 단계; 및 성장시키고자 하는 무기물질의 전구체 용액에 상기 5가 원소가 도핑된 나노구조체를 침지시켜, 상기 5가 원소 도핑지점으로부터 무기물질을 성장시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하며, 본 발명에 따르면, 유기 기반의 나노구조체에 별도의 코팅층을 형성시키거나, 결합기를 표면에 결합시키는 대신, 나노구조체에 질소와 같은 5가 원소를 도핑시켜, 이를 무기물질 결정화 지점으로 활용한다. 따라서 나노구조체와 무기물질의 결합성을 경제적이고, 효과적인 방식으로 증가시킬 수 있으며, 무기물질과 나노구조체가 화학적으로 결합된 무기-나노구조체 제조가 가능하다.
Abstract:
본 발명은 높은 전하 전송 효율 및 선택성을 가지는 전하선택적 계면전송층 및 이를 이용한 유기전자장치에 관한 것으로서, 자세하게는 i) 무기 반도체 물질(inorganic semiconducting material)과 ii) 상기 무기 반도체 물질과의 접촉 계면에 자발분극(spontaneous dipolar polarization)을 통한 다이폴(dipole)을 유도할 수 있는 물질로 구성된 전하선택적 계면전송층을 이용하여 유기 발광다이오드(OLED), 유기 솔라셀 (organic solar cells), 유기 트랜지스터 (organic TFTs), 유기 메모리, 유기 센서 등 유기 반도체를 이용한 다양한 유기전자 소자에 적용하는 기술에 대한 것이다.
Abstract:
본 발명은 양친성 계면활성제를 포함하는 박리액으로 혹연을 박리하는 단계 를 포함하며,상기 양친성 계면활성제는 이온성 작용기를 포함하는 다환방향족 화합물인 그래핀의 제조방법 및 이로부터 제조된 그래핀에 관한 것이다. 보다 상세하게,두께가 얇고 면적이 넓은 그래핀을 대량으로 용이하게 제조할 수 있으며, 제조 된 그래핀은 우수한 분산안정성을 가지는 그래핀의 제조방법 및 이로부터 제조된 그래핀에 관한 것이다.
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본 발명은 빛의 조사를 통해 자기조립고분자의 온도를 상승시킴으로써 패턴을 형성하는 것인 나노패턴 제조방법으로, 빛이 조사되는 부분에서 자기조립고분자의 χΝ을 10.5 이하로 유도하여 완전 무질서상태를 인가한 후 지향성 자기조립을 유도하는 것인 나노패턴 제조방법에 관한 것이다.
Abstract:
본 발명은 고유 특성을 갖는 물리적 복제 방지(Physical Unclonable Function)용 디바이스에 관한 것으로, 본 발명에 따른 물리적 복제 방지용 디바이스는 자기조립 구조에 대응하는 나노 패턴을 포함을 포함한다. 본 발명에 따른 물리적 복제 방지용 디바이스는 비결정론적(non-deterministic) 특성을 갖는 블록공중합체 자발적 상 분리 거동에 의해 형성되는 자기조립 구조에 근간한 PUF 패턴을 가짐에 따라, 복제 불가능한 고유 특성을 가질 수 있다.