公开(公告)号：WO2012014059A1

公开(公告)日：2012-02-02

申请号：PCT/IB2011/001756

申请日：2011-07-27

Applicant: AZ ELECTRONIC MATERIALS USA CORP.

Inventor： WU, Hengpeng ,  LI, Meng ,  CAO, Yi ,  YIN, Jian ,  LEE, DongKwan ,  HONG, Sung-Eun ,  PAUNESCU, Margareta

IPC: C09D183/08 ,  G03F7/075 ,  G03F7/40 ,  C09D4/00

CPC classification number: C09D183/08 ,  C08G77/26 ,  C08K5/09 ,  C08K5/544 ,  G03F7/405

Abstract: The present invention relates to an aqueous composition for coating over a photoresist pattern comprising a first water soluble compound comprising at least a silicon moiety and at least one amino group, and a second compound comprising at least 1 carboxylic acid group. The invention further relates to processes for using the novel invention.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于在光致抗蚀剂图案上涂覆的水性组合物，其包含至少包含硅部分和至少一个氨基的第一水溶性化合物和包含至少1个羧酸基团的第二化合物。 本发明还涉及使用本发明的方法。