Abstract:
L'invention a pour objet un procédé de traitement thermique comprenant l'irradiation d'un substrat comprenant une feuille de verre revêtue sur une de ses faces d'un empilement de couches minces, sous une atmosphère contenant de l'oxygène (O 2 ), avec un rayonnement électromagnétique présentant une longueur d'onde comprise entre 500 et 2000 nm, ledit rayonnement électromagnétique étant issu d'un dispositif émetteur placé en regard de l'empilement de couches minces, un déplacement relatif étant créé entre ledit dispositif émetteur et ledit substrat de manière à porter l'empilement de couches minces à une température au moins égale à 300 °C pendant une durée brève inférieure à une seconde, de préférence inférieure à 0,1 seconde, ledit procédé étant caractérisé par le fait que la dernière couche de l'empilement, en contact avec l'atmosphère, appelée surcouche, est une couche métallique d'indium ou d'un alliage à base d'indium. Elle a également pour objet un substrat pour la mise en œuvre de ce procédé et un substrat susceptible d'être obtenu par ce procédé.
Abstract:
L'invention concerne un matériau comprenant un substrat (30) revêtu sur une face (29) d'un empilement de couches minces (14) comportant au moins une couche fonctionnelle métallique (140) et comportant : - une sous-couche d'oxyde à base de zinc, ZnO (129) entre 0,3 et 5,0 nm; - une sous-couche diélectrique de nitrure à base de silicium-zirconium SixNyZrZ (127) sous et au contact de ladite sous-couche d'oxyde à base de zinc ZnO (129), entre 5,0 et 50,0 nm; et - une sous-couche diélectrique primaire de nitrure à base de silicium Si3N4 (125) sous et au contact de ladite sous-couche de nitrure à base de silicium-zirconium SixNyZrZ (127), entre 5,0 et 50,0 nm.
Abstract:
L'invention concerne un matériau comprenant un substrat (30) revêtu sur une face (29) d'un empilement de couches minces (14) comportant au moins une couche fonctionnelle métallique (140) et comportant : - une sous-couche d'oxyde à base de zinc, ZnO (129) entre 0,3 et 4,4 nm; - une sous-couche diélectrique d'oxyde mixte à base de zinc et d'étain SniZnjO (128) entre 3,0 et 50,0 nm; - de nitrure à base de silicium Si3N4 (127) ou à base de silicium-zirconium SixNyZrz, entre 5,0 et 30,0 nm; - une couche de surblocage (150) d'oxyde à base de titane TiOx située sur et au contact de ladite couche fonctionnelle (140).
Abstract:
L'invention se rapporte à un substrat (30) transparent muni sur une face principale d'un empilement de couches minces comportant une seule couche fonctionnelle (140) métallique à propriétés de réflexion dans l'infrarouge et/ou dans le rayonnement solaire, notamment à base d'argent ou d'alliage métallique contenant de l'argent, et deux revêtements anti reflet (120, 160), lesdits revêtements antireflet comportant chacun au moins une couche diélectrique (122, 128; 162, 168), ladite couche fonctionnelle (40) étant disposée entre les deux revêtements antireflet (20, 60), caractérisé en ce qu'au moins le revêtement antireflet (120) situé entre ledit substrat (30) et ladite couche fonctionnelle (140), voire les deux revêtements anti reflet (120, 160) comporte(nt) une couche (126, 166) comportant du nitrure de silicium zirconium, Si x Zr y N z , avec un ratio atomique de Zr sur la somme Si + Zr, y / (x + y), qui est compris entre 25,0 % et 40,0 % en intégrant ces valeurs, voire entre 27,0 % et 37,0 % en intégrant ces valeurs.
Abstract:
L'invention concerne un matériau comprenant un substrat (30) revêtu sur une face (29) d'un empilement de couches minces (14) comportant au moins une couche fonctionnelle métallique (140) et comportant : - une sous-couche d'oxyde à base de zinc, ZnO (129) entre 0,3 et 5,0 nm; - une sous-couche diélectrique d'oxyde à base de titane, TiOx (127) qui est située sous et au contact de ladite sous-couche d'oxyde à base de zinc, ZnO (129), avec une épaisseur entre 5,0 et 50,0 nm; - couche de surblocage d'oxyde à base de titane TiOx (150) entre 0,3 et 5,0 nm; - une surcouche d'oxyde à base de zinc, ZnO (161) entre 2,0 et 10,0 nm; et - une surcouche diélectrique (165).
Abstract:
L'invention concerne un matériau comprenant un substrat (30) revêtu sur une face (29) d'un empilement de couches minces (14) comportant au moins une couche fonctionnelle métallique (140) et comportant : - une sous-couche d'oxyde à base de zinc, ZnO (129) entre 0,3 et 5,0 nm; - une sous-couche diélectrique de nitrure à base de silicium, Si3N4 (127) entre 10,0 et 50,0 nm; - une surcouche d'oxyde à base de zinc, ZnO (161 ) entre 2,0 et 10,0 nm : - une surcouche diélectrique (165)
Abstract:
L'invention concerne un matériau comprenant un substrat (30) revêtu sur une face (29) d'un empilement de couches minces (14) comportant au moins une couche fonctionnelle métallique (140) et comportant : - une sous-couche d'oxyde à base de zinc, ZnO (129) entre 0,3 et 4,4 nm; - une sous-couche diélectrique d'oxyde mixte à base de zinc et d'étain SniZnjO (128) entre 3,0 et 50,0 nm, - une sous-couche diélectrique de nitrure à base de silicium-zirconium SixNyZrZ (127) sous et au contact de ladite sous-couche d'oxyde à base de zinc ZnO (129), entre 5,0 et 50,0 nm; et - une sous-couche diélectrique de nitrure à base de silicium Si3N4 (127) ou à base de silicium-zirconium SixNyZrZ, entre 5,0 et 50,0 nm.
Abstract:
L'invention concerne un matériau comprenant un substrat (30) revêtu sur une face (29) d'un empilement de couches minces (14) comportant au moins une couche fonctionnelle métallique (140) et comportant : - une sous-couche d'oxyde à base de zinc, ZnO (129) entre 0,3 et 5,0 nm; - une sous-couche diélectrique de nitrure à base de silicium-zirconium SixNyZrZ (127) sous et au contact de ladite sous-couche d'oxyde à base de zinc ZnO (129), entre 5,0 et 50,0 nm; - une sous-couche diélectrique primaire de nitrure à base de silicium Si3N4 (125) sous et au contact de ladite sous-couche de nitrure à base de silicium-zirconium SixNyZrZ (127), entre 5,0 et 30,0 nm; - une couche de surblocage d'oxyde à base de titane TiOx (150) située sur et au contact de ladite couche fonctionnelle (140).
Abstract:
L'invention concerne un matériau comprenant un substrat (30) revêtu sur une face (29) d'un empilement de couches minces (14) comportant au moins une couche fonctionnelle métallique (140) et comportant : - une sous-couche d'oxyde à base de zinc, ZnO (129) entre 0,3 et 4,4 nm; - une sous-couche diélectrique de nitrure à base de silicium, Si3N4 (127) entre 10,0 et 50,0 nm; - une surcouche d'oxyde à base de zinc, ZnO (161) entre 2,0 et 10,0 nm; - une surcouche diélectrique (165); - une couche de surblocage d'oxyde à base de titane TiOx (150) située sur et au contact de ladite couche fonctionnelle (140).
Abstract:
L'invention concerne un matériau comprenant un substrat (30) revêtu sur une face (29) d'un empilement de couches minces (14) comportant au moins une couche fonctionnelle métallique (140) et comportant: - une sous-couche d'oxyde à base de zinc, ZnO (129) entre 0,3 et 4,4 nm; - une sous-couche diélectrique d'oxyde à base de titane, TiOx (127) qui est située sous et au contact de ladite sous-couche d'oxyde à base de zinc, ZnO (129), avec une épaisseur physique de sous-couche diélectrique d'oxyde à base de titane TiOx (127) entre 5,0 et 50,0 nm; - une surcouche d'oxyde à base de zinc, ZnO (161) entre 2,0 et 10,0 nm: - une surcouche diélectrique (165).