PROCEDE DE RECUIT RAPIDE D'UN EMPILEMENT DE COUCHES MINCES CONTENANT UNE SURCOUCHE A BASE D'INDIUM
    1.
    发明申请
    PROCEDE DE RECUIT RAPIDE D'UN EMPILEMENT DE COUCHES MINCES CONTENANT UNE SURCOUCHE A BASE D'INDIUM 审中-公开
    快速释放包含基于铟的过度堆叠的薄膜堆叠的方法

    公开(公告)号:WO2017064420A1

    公开(公告)日:2017-04-20

    申请号:PCT/FR2016/052636

    申请日:2016-10-12

    Abstract: L'invention a pour objet un procédé de traitement thermique comprenant l'irradiation d'un substrat comprenant une feuille de verre revêtue sur une de ses faces d'un empilement de couches minces, sous une atmosphère contenant de l'oxygène (O 2 ), avec un rayonnement électromagnétique présentant une longueur d'onde comprise entre 500 et 2000 nm, ledit rayonnement électromagnétique étant issu d'un dispositif émetteur placé en regard de l'empilement de couches minces, un déplacement relatif étant créé entre ledit dispositif émetteur et ledit substrat de manière à porter l'empilement de couches minces à une température au moins égale à 300 °C pendant une durée brève inférieure à une seconde, de préférence inférieure à 0,1 seconde, ledit procédé étant caractérisé par le fait que la dernière couche de l'empilement, en contact avec l'atmosphère, appelée surcouche, est une couche métallique d'indium ou d'un alliage à base d'indium. Elle a également pour objet un substrat pour la mise en œuvre de ce procédé et un substrat susceptible d'être obtenu par ce procédé.

    Abstract translation: 本发明的目的是提供一种处理本发明主题的方法。 热处理方法,该方法包括在含有氧气(O 2)的气氛中用包括在其一个面上涂覆有玻璃板的基板上的薄层叠层进行照射, 具有在500和2000nm之间的波长的电磁辐射,所述电磁辐射源自位于500和2000nm之间的距离处的发射器设备。 在堆叠的薄层旁边,创建相对移动。 在所述发射器设备和所述驱动基板之间; 携带薄薄的一层堆叠物; 至少一个温度相等; 在较低硬度期间为300℃; 一秒钟,优先级较低; 所述程序是0.1秒 &cant caract caract caract caract caract caract caract caract caract caract caract caract caract caract caract caract caract caract caract caract caract caract caract caract caract caract caract caract caract caract caract caract 因为与大气接触的叠层的最后一层被称为外涂层,是铟或合金的金属层。 铟基地。 它还涉及用于实施该过程的基材。 以及可能通过该过程获得的基板。

    MATERIAU COMPORTANT UN EMPILEMENT A SOUS-COUCHE DIELECTRIQUE FINE D'OXIDE A BASE DE ZINC ET PROCEDE DE DEPOT DE CE MATERIAU

    公开(公告)号:WO2021105424A1

    公开(公告)日:2021-06-03

    申请号:PCT/EP2020/083726

    申请日:2020-11-27

    Abstract: L'invention concerne un matériau comprenant un substrat (30) revêtu sur une face (29) d'un empilement de couches minces (14) comportant au moins une couche fonctionnelle métallique (140) et comportant : - une sous-couche d'oxyde à base de zinc, ZnO (129) entre 0,3 et 5,0 nm; - une sous-couche diélectrique de nitrure à base de silicium-zirconium SixNyZrZ (127) sous et au contact de ladite sous-couche d'oxyde à base de zinc ZnO (129), entre 5,0 et 50,0 nm; et - une sous-couche diélectrique primaire de nitrure à base de silicium Si3N4 (125) sous et au contact de ladite sous-couche de nitrure à base de silicium-zirconium SixNyZrZ (127), entre 5,0 et 50,0 nm.

    SUBSTRAT MUNI D'UN EMPILEMENT A PROPRIETES THERMIQUES COMPORTANT AU MOINS UNE COUCHE COMPRENANT DU NITRURE DE SILICIUM-ZIRCONIUM ENRICHI EN ZIRCONIUM, SON UTILISATION ET SA FABRICATION
    4.
    发明申请

    公开(公告)号:WO2018024985A1

    公开(公告)日:2018-02-08

    申请号:PCT/FR2017/052166

    申请日:2017-08-02

    Abstract: L'invention se rapporte à un substrat (30) transparent muni sur une face principale d'un empilement de couches minces comportant une seule couche fonctionnelle (140) métallique à propriétés de réflexion dans l'infrarouge et/ou dans le rayonnement solaire, notamment à base d'argent ou d'alliage métallique contenant de l'argent, et deux revêtements anti reflet (120, 160), lesdits revêtements antireflet comportant chacun au moins une couche diélectrique (122, 128; 162, 168), ladite couche fonctionnelle (40) étant disposée entre les deux revêtements antireflet (20, 60), caractérisé en ce qu'au moins le revêtement antireflet (120) situé entre ledit substrat (30) et ladite couche fonctionnelle (140), voire les deux revêtements anti reflet (120, 160) comporte(nt) une couche (126, 166) comportant du nitrure de silicium zirconium, Si x Zr y N z , avec un ratio atomique de Zr sur la somme Si + Zr, y / (x + y), qui est compris entre 25,0 % et 40,0 % en intégrant ces valeurs, voire entre 27,0 % et 37,0 % en intégrant ces valeurs.

    Abstract translation:

    本发明涉及 透明衬底(30),其设置在一个主面上,具有由金属形成的单一功能层(140)的薄层叠层; 特别是在红外线和/或太阳辐射中的反射特性; 基于银或含银的金属合金M E,以及两个转&ecirc;服装抗反射(120,160),所述转&ecirc;抗反射服装每一个包括至少一种二é层;电(122,128; 162 所述功能层(40)设置在两个抗反射涂层(20,60)之间,其特征在于所述功能层(40)位于所述两个抗反射涂层(20,60)之间 至少设置抗反射涂层(120) 所述衬底(30)和所述功能之间的层(140),或两者REV&ecirc;服装抗反射(120,160)包括(一个或多个)的层(126,166),其包含锆硅氮化物,Si <子> X 锆<子>ý名词<子>ž,与Zr中的总和的Si +的Zr,Y /(X + Y),这是25之间的原子比 通过整合这些值,甚至在27.0%和37.0%之间,这些值为0%和40.0%。

    MATERIAU COMPORTANT UN EMPILEMENT A SOUS-COUCHE DIELECTRIQUE FINE D'OXIDE A BASE DE ZINC ET PROCEDE DE DEPOT DE CE MATERIAU

    公开(公告)号:WO2022129798A1

    公开(公告)日:2022-06-23

    申请号:PCT/FR2021/052361

    申请日:2021-12-16

    Abstract: L'invention concerne un matériau comprenant un substrat (30) revêtu sur une face (29) d'un empilement de couches minces (14) comportant au moins une couche fonctionnelle métallique (140) et comportant : - une sous-couche d'oxyde à base de zinc, ZnO (129) entre 0,3 et 4,4 nm; - une sous-couche diélectrique d'oxyde mixte à base de zinc et d'étain SniZnjO (128) entre 3,0 et 50,0 nm, - une sous-couche diélectrique de nitrure à base de silicium-zirconium SixNyZrZ (127) sous et au contact de ladite sous-couche d'oxyde à base de zinc ZnO (129), entre 5,0 et 50,0 nm; et - une sous-couche diélectrique de nitrure à base de silicium Si3N4 (127) ou à base de silicium-zirconium SixNyZrZ, entre 5,0 et 50,0 nm.

    MATERIAU COMPORTANT UN EMPILEMENT A SOUS-COUCHE DIELECTRIQUE FINE D'OXIDE A BASE DE ZINC ET PROCEDE DE DEPOT DE CE MATERIAU

    公开(公告)号:WO2021219961A1

    公开(公告)日:2021-11-04

    申请号:PCT/FR2021/050738

    申请日:2021-04-28

    Abstract: L'invention concerne un matériau comprenant un substrat (30) revêtu sur une face (29) d'un empilement de couches minces (14) comportant au moins une couche fonctionnelle métallique (140) et comportant: - une sous-couche d'oxyde à base de zinc, ZnO (129) entre 0,3 et 4,4 nm; - une sous-couche diélectrique d'oxyde à base de titane, TiOx (127) qui est située sous et au contact de ladite sous-couche d'oxyde à base de zinc, ZnO (129), avec une épaisseur physique de sous-couche diélectrique d'oxyde à base de titane TiOx (127) entre 5,0 et 50,0 nm; - une surcouche d'oxyde à base de zinc, ZnO (161) entre 2,0 et 10,0 nm: - une surcouche diélectrique (165).

Patent Agency Ranking