公开(公告)号：WO2019110385A1

公开(公告)日：2019-06-13

申请号：PCT/EP2018/082816

申请日：2018-11-28

Applicant: SILTRONIC AG

Inventor： OLBRICH, Torsten ,  FECHNER, Martha

IPC: B24B37/28

Abstract: Läuferscheibe zum Führen von Halbleiterscheiben während einer beidseitigen materialabtragenden Bearbeitung der Halbleiterscheiben, wobei die Läuferscheibe mit einer Schicht aus diamantähnlichem Kohlenstoff beschichtet ist, und die Schicht Wasserstoff mit einem Anteil von nicht weniger als 10 Atom-% und nicht mehr als 30 Atom-% und mindestens ein weiteres Fremdelement enthält, wobei das weitere Fremdelement Sauerstoff, Stickstoff, Chrom oder Titan ist, und eine Oberfläche der Schicht eine Rauheit Ra von nicht weniger als 5 nm und nicht mehr als 40 nm aufweist und einen Grad an Hydrophilie hat, dass der Benetzungswinkel eines Wassertropfens kleiner als 25° ist. Verfahren zur beidseitigen Politur von Halbleiterscheiben, bei dem eine solche Läuferscheibe eingesetzt wird.