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公开(公告)号:WO2023090252A1
公开(公告)日:2023-05-25
申请号:PCT/JP2022/041958
申请日:2022-11-10
Applicant: 東京エレクトロン株式会社
Inventor: 輿水 地塩
IPC: H05H1/46
Abstract: 開示されるプラズマ処理装置では、バイアス電源が、バイアス周波数を有する電気バイアスエネルギーを、第1のクロック信号により指定されるタイミングで基板支持部に供給する。高周波電源が、電気バイアスエネルギーが基板支持部に供給されているときに、第2のクロック信号により指定されるタイミングで調整されたソース周波数を有するソース高周波電力を出力する。第2のクロック信号は、バイアス周波数より高い周波数を有し、第1のクロック信号に同期されている。
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公开(公告)号:WO2023089194A1
公开(公告)日:2023-05-25
申请号:PCT/EP2022/082802
申请日:2022-11-22
Applicant: PLASMATREAT GMBH
Inventor: BUSKE, Christian
Abstract: Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (2, 302, 402, 502, 602, 802) zur Bearbeitung einer Oberfläche (4) eines Werkstücks (6) mit einem Laserstrahl (8, 8'), mit einem Lasersystem (12, 12') zur Bereitstellung des Laserstrahls (8, 8') und mit einer Plasmadüse (14, 14'), die zur Erzeugung eines atmosphärischen Plasmastrahls (16, 16') eingerichtet ist, wobei die Plasmadüse (14, 14') einen Düsenkopf (22, 22') aufweist, aus dem im Betrieb ein in der Plasmadüse (14, 14') erzeugter Plasmastrahl (16, 16') austritt, wobei das Lasersystem (12, 12') und die Plasmadüse (14, 14') so zueinander angeordnet und eingerichtet sind, dass der Laserstrahl (8, 8') im Betrieb aus dem Düsenkopf (22, 22') der Plasmadüse (14, 14') austritt, und wobei der Düsenkopf (22, 22') um eine Rotationsachse (R) rotierbar ist, die schräg und/oder versetzt zu dem im Betrieb aus dem Düsenkopf (22, 22') austretenden Plasmastrahl (16, 16') und/oder zu dem im Betrieb aus dem Düsenkopf (22, 22') austretenden Laserstrahl (8, 8') verläuft. Die Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zum Betrieb einer solchen Vorrichtung.
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公开(公告)号:WO2023085861A1
公开(公告)日:2023-05-19
申请号:PCT/KR2022/017784
申请日:2022-11-11
Inventor: 강호림 KANG, Horim , 김혜정 KIM, Hyejung , 강인한 KANG, Inhan , 강해 KANG, Hae
Abstract: 본 명세서는 원통형 자석, 상기 원통형 자석 내부에 배치된 원통형 동관, 및 상기 원통형 동관의 중심 축을 따라 배치된 적어도 하나의 전극봉을 포함하며, 상기 원통형 동관과 상기 전극봉 간에 고전압을 인가하여 대기압 상태에서 연속적으로 플라즈마를 발생시키며, 상기 원통형 자석은 상기 원통형 동관 내부의 일정 공간 내에 상기 플라즈마를 유지시키기 위한 자기력을 제공하는 것을 특징으로 하는, 플라즈마 커튼 발생 장치를 개시한다. 상기 플라즈마 커튼 발생 장치는 생활폐기물이나 산업폐기물을 처리하는 소각시설 혹은 중·저준위 방사성 폐기물을 처리하는 소각시설에서 소각에 따른 배기체가 유입되는 굴뚝에 설치되어 배기체에 포함된 오염물질을 저감하는 데에 이용될 수 있다. [대표도: 도 1]
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公开(公告)号:WO2023085646A1
公开(公告)日:2023-05-19
申请号:PCT/KR2022/016354
申请日:2022-10-25
Applicant: 한국전기연구원
Abstract: 본 발명은 정밀한 방사선량 제어 기능을 가지는 선형가속기에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 전자총의 열음극 가열 전류와 캐소드 전압 등을 조절하면서 전자총의 출력 전류를 안정화시켜 방사선량을 안정적으로 일정하게 제어할 수 있는 정밀한 방사선량 제어 기능을 가지는 선형가속기에 관한 것이다. 본 발명에서는, 전자를 방출하는 전자총; 상기 전자총의 전원을 공급하는 전자총 전원부; 상기 전자총에서 방출된 상기 전자를 가속하는 가속관; 상기 전자의 가속을 위한 고주파 신호를 상기 가속관으로 인가하는 고주파 인가부; 상기 가속관을 통과한 전자가 충돌하여 방사선을 생성하는 타겟; 및 상기 전자총 전원부를 제어하여 상기 타겟에서 생성되는 방사선량이 미리 정해진 범위에서 일정하게 유지되도록 제어하는 제어부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 선형가속기를 개시한다.
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公开(公告)号:WO2023077771A1
公开(公告)日:2023-05-11
申请号:PCT/CN2022/093178
申请日:2022-05-16
Applicant: 强固生物技术(上海)有限公司
Abstract: 本发明公开了一种等离子发生装置,涉及环境消杀领域,包括框架,放电针和等离子发生筒,在所述框架内,所述等离子发生筒组成阵列,筒间无间隙,在每个所述等离子发生筒的内部几何中心线上放置所述放电针,所述放电针的放电端点到所述等离子发生筒的边缘上的任何点距离相同。本发明所述的技术方案结合圆形柱体等离子发生筒与正方形柱状等离子发生筒各自的优点、排除各自的缺点,实现等离子电离在最经济的电压情况下空气流通量最大,消杀效率得以最大化。
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公开(公告)号:WO2023068907A1
公开(公告)日:2023-04-27
申请号:PCT/KR2022/016265
申请日:2022-10-24
Applicant: 서강대학교산학협력단
Abstract: 본 발명의 일 실시예에 따르면, 공급된 탄화수소 피드로부터 메탄 피드와 경질 탄화수소 피드를 분리하는 피드 분리부; 상기 피드 분리부로부터 상기 경질 탄화수소 피드를 공급받아 에탄 크래킹 공정을 수행하여 올레핀 생성물을 제조하는 에탄 크래킹부; 상기 피드 분리부로부터 상기 메탄 피드를 공급받아 플라즈마 반응을 통해 포화 탄화수소 피드를 생성하는 유전체 장벽 반응부를 포함하고, 상기 포화 탄화수소 피드는 상기 에탄 크래킹부로 공급되고, 공급된 상기 포화 탄화수소 피드로부터 에탄 크래킹 공정을 통해 올레핀 생성물이 제조되는, 올레핀 제조 반응 장치가 제공된다.
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公开(公告)号:WO2023059520A1
公开(公告)日:2023-04-13
申请号:PCT/US2022/045451
申请日:2022-09-30
Applicant: MONOLITH MATERIALS, INC.
Inventor: LEIS, Mathew , CARDINAL, Christopher J.-P. , DAMES, Enoch , DASAPPA, Shruthi , HOERMANN, Alexander
IPC: C01B32/05 , C01B3/24 , C01B32/956 , H05H1/48
Abstract: Disclosed is a method to produce carbonaceous material and hydrogen using a plasma reactor operated at pressures greater than or equal to about 1.5 bar to greater than or equal to 20 bar. One or more electrodes within the reactor are used to generate plasma using either AC or DC. A hydrocarbon, such as natural gas or methane, in either liquid or gaseous form, is injected into the reactor via injectors, the plasma reactor then breaking down the hydrocarbon into hydrogen gas and carbon particles in an oxygen-free process. Additives and sheath gases may further be added to the reactor to improve or change the products.
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公开(公告)号:WO2023059171A1
公开(公告)日:2023-04-13
申请号:PCT/KR2022/015308
申请日:2022-10-11
Applicant: 아주대학교산학협력단
Abstract: 본 발명은 플라즈마가 처리되어 표면이 개질된 치과용 지르코니아 소재, 임플란트 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따라 제조된 지르코니아 소재, 임플란트는 세포 부착능과 항균효과가 향상되어, 생체 친화성이 향상되고, 사용자의 염증반응 등을 최소화할 수 있다.
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公开(公告)号:WO2023049730A1
公开(公告)日:2023-03-30
申请号:PCT/US2022/076756
申请日:2022-09-21
Applicant: SUSTEON INC.
Inventor: ZHOU, Shaojun, James , GUPTA, Raghubir, Prasad
Abstract: A dielectric barrier discharge plasma reactor and method in which plasma is used to activate difficult-to-activate molecules and the catalyst so that chemical conversion of the activated molecules can occur at reduced temperature and pressure conditions to carry out chemical reactions that ordinarily occur at high temperature and high pressure conditions or otherwise do not occur at all. The dielectric barrier discharge plasma reactor includes a tubular outer ground electrode having an inner surface bounding an interior volume therein, a dielectric electrode coaxially mounted in the interior volume of the tubular outer ground electrode, the dielectric electrode comprising a central electrode in a cylindrical dielectric element, the cylindrical dielectric element having an outer surface in spaced relationship to the inner surface of the tubular outer ground electrode to define an annular fluid flow passage therebetween, and a catalyst material comprising catalyst coated on the inner surface of the tubular outer ground electrode and optionally further comprising catalyst in a catalyst bed in the annular fluid flow passage.
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公开(公告)号:WO2023047960A1
公开(公告)日:2023-03-30
申请号:PCT/JP2022/033598
申请日:2022-09-07
Applicant: 東京エレクトロン株式会社
Inventor: カク 剣明
IPC: H01L21/31 , C23C16/509 , H05H1/46
Abstract: プラズマ化した処理ガスから、基板に対して高密度のラジカルを供給して処理を行う技術を提供する。 載置台上の基板にプラズマ化した処理ガスを供給して処理を行う装置は、互いに対向させて配置される対向面を有し、高周波電源に接続されたカソード電極、及び接地端側のアノード電極からなる電極セットを配置して得られた前記対向面の間の空間であって、前記処理ガスをプラズマ化するための複数のプラズマ生成空間と、前記プラズマ生成空間でプラズマ化した前記処理ガスを前記載置台側へ供給すると共に、前記プラズマ化した処理ガス中に含まれるイオンをシース領域にトラップするための、誘電体面を有する複数の供給流路が形成されたイオントラップ部と、を備える。
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