公开(公告)号：WO2017157846A1

公开(公告)日：2017-09-21

申请号：PCT/EP2017/055832

申请日：2017-03-13

Applicant: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT ,  PLASMATREAT GMBH

Inventor： BUSKE, Christian ,  EDER, Florian ,  GRISHIN, Artur ,  KNOSPE, Alexander

IPC: C23C16/00 ,  C22F1/06 ,  H05H1/00 ,  B21D37/16

CPC classification number: H05H1/2406 ,  C22F1/06 ,  H05H2001/2418

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung, die zur Umformung von metallischen Werkstoffen einsetzbar ist. Die Erfindung betrifft demnach eine Vorrichtung zur Biegeumformung wie der Druckumformung, beispielsweise durch Flächenwalzen, der Zugumformung, beispielsweise durch Streckziehen und/oder der Zugdruckumformung, beispielsweise zum Tiefziehen. Zur Verminderung der durch Reibungsverluste und Reibungsschäden während des Umformungsprozesses auftretender Schäden und Energieverluste wird vorgeschlagen, in der Vorrichtung ein Plasmaerzeugungsmodul vorzusehen, durch das ausgewählte Oberflächen der Werkzeuge der Vorrichtung und/oder der umzuformenden metallischen Bauteile mit einer Beschichtung im Nanometerbereich, bevorzugt vor der Umformung, beschichtbar sind und nach der Umformung behandelbar sind, also beispielsweise von der organischen Schutzschicht wieder gereinigt werden. Die Erfindung betrifft auch ein mit der Vorrichtung durchführbares Verfahren.

Abstract translation: 本发明涉及一种可用于形成金属材料的装置。 的，本发明涉及一种用于由液态＆AUML弯曲变形作为压力变形，例如;通过拉伸chenwalzen，所述Zugumformung，例如形成和/或Zugdruckumformung，例如用于深冲。 为了减少摩擦损失和Reibungssch BEAR成形过程SCH＆AUML期间发生的瓦特BEAR;所述和能量损失提出提供在设备中的等离子生成模块，通过拾取AUML;的设备和/或再成形金属部件陈用的工具HLTE表面BEAR 纳米范围内的涂层，优选在形成之前，是可涂覆的并且可以在成形之后进行处理，即例如从有机保护层再次清洁。 本发明还涉及可以用该设备执行的方法。

公开(公告)号：WO2017129582A1

公开(公告)日：2017-08-03

申请号：PCT/EP2017/051483

申请日：2017-01-25

Applicant: PLASMATREAT GMBH

Inventor： BUSKE, Christian ,  GRISHIN, Artur ,  FEHLING, Kay ,  KNOSPE, Dr. Alexander

IPC: B29C45/14

CPC classification number: H05H1/48 ,  B29C45/14311 ,  B29C2045/14885 ,  H05H1/42 ,  H05H2245/123

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Spritzgussbauteils (64, 70, 90, 110) mit Einlegeteil (40, 72, 92, 112), bei dem ein Einlegeteil (40, 72, 92, 112) mit einer anorganischen Oberfläche (42) bereitgestellt wird und bei dem das Einlegeteil (40, 72, 92, 112) im Spritzguss zumindest teilweise umspritzt wird, wobei der beim Spritzguss umspritzte Bereich der anorganischen Oberfläche (42) des Einlegeteils (40, 72, 92, 112) vor dem Umspritzen zumindest bereichsweise beschichtet wird, indem die anorganische Oberfläche (42) mit einem atmosphärischen Plasmastrahl (26, 48) und einem Precursor (28, 50) beaufschlagt wird. Die Erfindung betrifft weiterhin ein Spritzgussbauteil (64, 70, 90, 110) mit Einlegeteil (40, 72, 92, 112), wobei das Einlegeteil (40, 72, 92, 112) eine zumindest teilweise umspritzte anorganische Oberfläche (42) aufweist und wobei zwischen der anorganischen Oberfläche (42) und dem umspritzten Kunststoff zumindest bereichsweise eine durch Plasmabeschichtung, insbesondere Plasmapolymerisation, aufgebrachte Schicht (44) angeordnet ist.

Abstract translation:

本发明涉及一种用于生产具有一个插入件（40，72，92，112），注射模制部件（64，70，90，110），其中一个插入件（40，72，92，112 ）用无机表面BEAR设置面（42）和其中插入件（40，72，92，112）由注射模制封装，至少部分地，其中所述包覆模制在该插入件的无机表面BEAR表面（42）的注塑成型区域（ 通过将大气等离子体射流（26,48）和前体（28,50）施加到所述无机表面（42）上，在包封之前至少在区域中涂覆所述第一层（40,72,92,112）。 本发明还涉及具有插入件（40，72，92，112）的注射模制部件（64，70，90，110），其中所述插入件（40，72，92，112）具有至少部分地包覆成型无机表面BEAR枝（42） 并且其中在所述无机表面（42）和所述包覆成型塑料之间至少在区域中布置通过等离子体涂布，特别是等离子体聚合涂布的层（44）

公开(公告)号：WO2017064740A1

公开(公告)日：2017-04-20

申请号：PCT/JP2015/005185

申请日：2015-10-13

Applicant: SUNTORY HOLDINGS LIMITED ,  PLASMATREAT GMBH

Inventor： HIGASHIYAMA, Kenichi ,  TOMINAGA, Kenta ,  HIRAYAMA, Yuji ,  YOSHIHARA, Kazuki ,  IIZUKA, Toshiaki ,  MORIYA, Satoshi ,  BUSKE, Christian ,  HASSE, Daniel

IPC: A61L2/14

CPC classification number: A61L2/14 ,  A61L2202/15 ,  A61L2202/23

Abstract: A sterilizing device includes a nozzle (10) for spraying sterilizing agent (70) and a water vapor feeding section (40) for feeding water vapor to the nozzle (10). The nozzle (10) includes a plasma generating section (11), an outlet section (12) and a relaying section (13) connected to the plasma generating section (11) and the outlet section (12). The water vapor feeding section (40) is connected to the relaying section (13). The outlet section (12) sprays, as the sterilizing agent (70), a sterilizing agent 70 containing the plasma fed from the plasma generating section (11) and ROS (Reactive Oxidizing Species) generated through a reaction between the plasma and water vapor to the sterilization object.

Abstract translation: 杀菌装置包括用于喷射杀菌剂（70）的喷嘴（10）和用于将水蒸气供给到喷嘴（10）的水蒸气供给部（40）。 喷嘴10包括等离子体产生部分11，连接到等离子体产生部分11和出口部分12的出口部分12和中继部分13。 水蒸气供给部（40）与中继部（13）连接。 作为灭菌剂（70），出口部（12）喷射含有从等离子体生成部（11）供给的等离子体的灭菌剂70和通过等离子体与水蒸气之间的反应而生成的ROS（Reactive Oxidizing Species） 消毒对象。

公开(公告)号：WO2016156479A1

公开(公告)日：2016-10-06

申请号：PCT/EP2016/057040

申请日：2016-03-31

Applicant: PLASMATREAT GMBH ,  UNIVERSITÄT PADERBORN

Inventor： ENNEKING, Leonhard ,  GRISHIN, Artur ,  BUSKE, Christian ,  KNOSPE, Alexander ,  NORDMEYER, Timo ,  MORITZER, Elmar ,  SCHMIDT, Martin Andreas ,  LEISTER, Christian

IPC: B29C45/00 ,  B29C59/14

CPC classification number: B29C45/0053 ,  B29C59/14 ,  B29C2045/0079 ,  B29C2059/145

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Spritzgießwerkzeug (2, 32, 72) zur Herstellung eines Spritzgießteils (8, 38, 88), insbesondere aus Kunststoff, mit einer Spritzgießform (4, 34, 74), die eine Kavität (6, 36, 86) entsprechend dem Negativ der Form des herzustellenden Spritzgießteils (8, 38, 88) aufweist, wobei eine Plasmadüse (18, 52, 92, 130), die zur Erzeugung eines atmosphärischen Plasmastrahls (154) eingerichtet ist, derart an die Spritzgießform (4, 34, 74) angeschlossen ist, dass ein in der Spritzgießform (4, 34, 74) hergestelltes Spritzgießteil (8, 38, 88) in der Spritzgießform (4, 34, 74) mit einem Plasmastrahl (154) beaufschlagbar ist. Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines Spritzgießteils (8, 38, 88) mit einem Spritzgießwerkzeug (2, 32, 72), bei dem das Spritzgießmaterial, insbesondere ein Kunststoff, in eine Kavität (6, 36, 86) der Spritzgießform (4, 34, 74) eingeleitet wird, so dass sich ein Spritzgießteil (8, 38, 88) bildet, und bei dem das Spritzgießteil (8, 38, 88) in der Spritzgießform (4, 34, 74) mit einem atmosphärischen Plasmastrahl (154) beaufschlagt wird.

Abstract translation: 本发明涉及一种注射模制工具（2，32，72）用于制造注射成型件（8，38，88），特别是由塑料制成的，与对应于一注射模具（4,34，74）具有空腔（6，36，86） 注塑部分（8，38，88）的形状，的负其中，适于产生大气压等离子体射流（154），以这样的方式（以注射模具4,34一个等离子体喷嘴（18，52，92，130）， 74连接），其在注塑模具（4,34，74）中产生在注塑模具（4,34，74）（用等离子流154注射成型件（8，38，88））可被作用。 此外，本发明涉及一种方法，用于与注射成型模具（2,32，72），产生一个注射成型（8，38，88），其中所述注射模制材料，特别是塑料，在注射模具的模腔（6，36，86）（ 4，34，74）被引入，从而形成注射成型（8，38，88），并且其中在注塑模具（4，34中的注射模制部件（8，38，88），74）（与大气等离子流 154）被应用。

公开(公告)号：WO2014191012A1

公开(公告)日：2014-12-04

申请号：PCT/EP2013/060855

申请日：2013-05-27

Applicant: PLASMATREAT GMBH

Inventor： BUSKE, Christian ,  SCHMIDT, Martin

IPC: H05H1/24 ,  H05H1/48

CPC classification number: H05H1/2406 ,  H05H1/48 ,  H05H2001/2456 ,  H05H2240/10

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (2, 62) zur Behandlung eines Drahts (22) aus leitfähigem Material, mit einer Plasmadüse (4) zur Erzeugung eines atmosphärischen Plasmastrahls (6), wobei innerhalb der Plasmadüse (4) ein Entladungsraum (10) mit einer Düsenöffnung (12) zum Auslass des Plasmastrahls (6) ausgebildet ist, wobei zwischen einer Einlassöffnung (16) der Plasmadüse (4) und der Düsenöffnung (12) ein Kanal (20) ausgebildet ist, durch den der zu behandelnde Draht (22) hindurchführbar ist und wobei in der Plasmadüse (4) ein den Kanal (20) umgebender Röhrchenabschnitt (30) aus einem Dielektrikum so angeordnet ist, dass der Kanal (20) gegenüber dem Entladungsraum (10) zumindest abschnittsweise elektrisch isoliert ist sowie ein entsprechendes Verfahren. Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Behandlung eines Drahts aus leitfähigem Material, bei dem der zu behandelnde Draht (106, 204) durch einen Rohrabschnitt (104, 206) aus einem Dielektrikum geführt wird, bei dem eine an der Außenseite des Rohrabschnitts (104, 206) angeordnete erste Elektrode (108, 208) mit einer ersten hochfrequenten Hochspannung (HV, HV1) beaufschlagt wird und bei dem der Draht (106, 204) so beschaltet wird, dass zwischen der ersten Elektrode (108, 208) und dem Draht (106, 204) eine dielektrisch behinderte Entladung erfolgt sowie eine Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于导电材料的金属丝（22）的处理的装置（2，62），具有用于与产生的大气压等离子体射流（6），等离子体喷嘴内得到（4），放电室（10）的等离子体喷嘴（4） 是形成喷嘴开口（12），用于等离子体射流（6）的出口，所述等离子体喷嘴（4）的入口开口（16）和所述喷嘴开口（12），通道（20）之间形成，通过该待处理的金属丝（22）能够被引导 并且其中，所述等离子体喷嘴（4）周围的管部分（30）的通道（20）由电介质布置成使得所述通道（20）相对的放电空间（10）至少部分地电绝缘，以及相应的方法。 此外，本发明涉及一种用于导电材料的金属丝，其由电介质线导的由管状部分中的处理的待处理（106，204）（206 104），其中一个（在管部104的外侧， 206）布置在具有第一高频率，高电压（HV，HV1）的第一电极（108，208）被施加，并且其中所述线（106，204）以这样的方式进行布线，所述第一电极（108，208）和（导线之间 106，204）的电介质势垒放电发生和用于执行该方法的装置。

公开(公告)号：WO2011107510A1

公开(公告)日：2011-09-09

申请号：PCT/EP2011/053102

申请日：2011-03-02

Applicant: BUSKE, Christian ,  PLASMATREAT GMBH

Inventor： BUSKE, Christian

IPC: B32B27/16 ,  B32B27/36

CPC classification number: C09J5/00 ,  B31B50/72 ,  B31B70/61 ,  B32B37/1027 ,  B32B37/12 ,  B32B37/20 ,  B32B38/0008 ,  B32B2439/62 ,  B65B11/58

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines mehrschichtigen Verpackungsmaterials, bei dem ein Schmelzkleber bereitgestellt wird, bei dem der Schmelzkleber aufgeschmolzen wird, bei dem der Schmelzkleber auf ein erstes Verpackungsmaterial (10, 42, 62) aufgebracht wird und bei dem auf den Schmelzkleber ein zweites Verpackungsmaterial (14, 52, 68) aufgebracht wird, wobei der Schmelzkleber als Klebstoff film (4, 44, 66) bereitgestellt wird und wobei der Klebstoff film (4, 44, 66) durch die Beaufschlagung mit einem Plasmastrahl (8, 32, 50, 70, 78) aufgeschmolzen wird. Die Erfindung betrifft weiterhin eine Vorrichtung zum Auftragen eines Klebers, mit einem Gehäuse (92, 122, 160, 176, 186), mit einem an dem Gehäuse (92, 122, 160, 176, 186) angeordneten Klebervorrat (96, 126) und mit an dem Gehäuse (92, 122, 160, 176, 186) angeordneten Mitteln zum Aktivieren des Klebers (110, 130, 142, 196, 206), wobei das Gehäuse (92, 122, 160, 176, 186) eine Öffnung (94, 124) zum Austritt des Klebers (110, 130, 142, 196, 206) aufweist, wobei der Klebervorrat (96, 126) als Vorrat für einen langgestreckten Kleber (110, 130, 142, 196, 206) ausgebildet ist und wobei die Mittel zum Aktivieren des Klebers (110, 130, 142, 196, 206) als mindestens eine Plasmadüse (98, 100, 132, 144, 192, 202) zur Erzeugung eines atmosphärischen Plasmastrahls (98, 104, 134, 158, 198, 208) ausgebildet sind.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于制造层压包装材料，其中，提供了一种热熔性粘合剂，其中所述热熔粘合剂熔化，在被施加所述热熔性粘合剂的第一包装材料（10，42，62）和在其中的热熔粘接剂，第二 包装材料（14，52，68）被施加，所述提供热熔胶膜作为粘接剂（4，44，66），并且其中所述粘合膜（4,44，66）由所述应用程序（8用等离子体喷射，32，50 ，70，78）被熔化。 本发明还涉及一种设备，用于在所述壳体上施加粘合剂，其包括布置有一个壳体（92，122，160，176，186）（92，122，160，176，186）粘接剂供给（96，126）和 布置成与所述壳体（92，122，160，176，186）用于激活所述粘合剂（110，130，142，196，206），所述壳体（92，122，160，176，186）具有开口（ 94，124），用于排出粘接剂（110，130，142，196，206），其中所述粘合剂贮存器（96，126）作为用于细长的粘合剂（110，130，142，196，206）的供给被形成，以及其中 用于激活所述粘合剂（110，130，142，196，206）的装置的至少一个等离子喷嘴（98，100，132，144，192，202），用于产生大气压等离子体射流（98，104，134，158，198， 208）形成。

公开(公告)号：WO2005117507A3

公开(公告)日：2005-12-08

申请号：PCT/EP2005/005792

申请日：2005-05-30

Applicant: PLASMATREAT GMBH ,  FÖRNSEL, Peter ,  BUSKE, Christian ,  HARTMANN, Uwe ,  KLEINEMAS, Peter

Inventor： FÖRNSEL, Peter ,  BUSKE, Christian ,  HARTMANN, Uwe ,  KLEINEMAS, Peter

IPC: H05H1/34 ,  F21V7/22

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Entfernen mindestens einer anorganischen Schicht von einem Bauteil, bei dem mit Hilfe einer atmosphärischen Entladung in einem ein reaktives Gas enthaltenden Arbeitsgas ein Plasmastrahl erzeugt wird, bei dem der Plasmastrahl auf die anorganische Schicht gerichtet wird, bei dem die anorganische Schicht durch den Plasmastrahl zumindest teilweise geschmolzen wird und bei dem die zumindest teilweise geschmolzene anorganische Schicht durch den Gasstrom des Plasmastrahls von der Oberfläche entfernt wird. Dieses Verfahren lässt sich insbesondere beim Entschichten von Klebeflächen zweier Bauteile sowie zum Bearbeiten von Scheinwerferbauteilen einsetzen. Ebenso betrifft die Erfindung eine Vorrichtung zum Erzeugen eines Plasmastrahls zur Durchführung des zuvor beschriebenen Verfahrens.

公开(公告)号：WO2005099320A2

公开(公告)日：2005-10-20

申请号：PCT/EP2005/003442

申请日：2005-04-01

Applicant: PLASMATREAT GMBH ,  FOERNSEL, Peter ,  BUSKE, Christian ,  HARTMANN, Uwe

Inventor： FOERNSEL, Peter ,  BUSKE, Christian ,  HARTMANN, Uwe

IPC: H05H1/24

CPC classification number: H01J37/32357 ,  H01J37/32816 ,  H05H1/42

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Erzeugen eines Niederdruckplasmas, bei dem mit Hilfe einer Vakuumpumpe in einer Niederdruckkammer ein Unterdruck erzeugt wird und bei dem ein Plasmastrahl mit höherem Druck in die Niederdruckkammer eingeleitet wird. Die Erfindung betrifft auch verschiedenen Anwendungen des Niederdruckplasmas zum Oberflächenvorbehandeln, zum Oberflächenbeschichten oder zum Behandeln von Gasen. Ebenso betrifft die Erfindung eine Vorrichtung zum Erzeugen eines Niederdruckplasmas.

Abstract translation: 本发明涉及一种方法，用于生成低压等离子体，其中通过其在更高的压力的等离子流被引入到低压室的低压室，并在真空泵产生的负压。 本发明还涉及低压等离子体以Oberflächenvorbehandeln的各种应用中，用于表面涂层或为气体的处理。 本发明还涉及一种设备，用于生成低压等离子体。

公开(公告)号：WO2022258654A1

公开(公告)日：2022-12-15

申请号：PCT/EP2022/065479

申请日：2022-06-08

Applicant: PLASMATREAT GMBH

Inventor： BUSKE, Christian ,  BUSKE, Magnus

IPC: H05H1/34

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (42, 42', 42", 42"', 52) zum Erzeugen eines atmosphärischen Plasmastrahls (28) zur Behandlung einer Oberfläche eines Werkstücks mit einer Plasmadüse (3, 53, 53'), die zur Erzeugung eines atmosphärischen Plasmastrahls (28) eingerichtet ist, wobei die Plasmadüse (3, 53, 53') eine Düsenanordnung (44) mit einer Düsenöffnung (48, 48', 48", 48'", 58, 58') zum Auslassen eines in der Plasmadüse (3) zu erzeugenden Plasmastrahls (28) aufweist, wobei die Düsenanordnung (44) um eine Achse (A, B) drehbar ist und wobei die Düsenöffnung (48, 48', 48", 48'", 53, 53') einen Querschnitt mit einer von einer Kreisform abweichenden Form aufweist.

公开(公告)号：WO2022018024A1

公开(公告)日：2022-01-27

申请号：PCT/EP2021/070139

申请日：2021-07-19

Applicant: PLASMATREAT GMBH

Inventor： BUSKE, Christian

IPC: H05H1/48

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur überwachten Plasmabehandlung einer Leiterplatte (42), bei dem eine zu behandelnde Seite (40) einer Leiterplatte (42) einer Plasmabehandlung, insbesondere einer Plasmabeschichtung, unterzogen wird, bei der die zu behandelnde Seite (40) der Leiterplatte (42) mit einem atmosphärischen Plasmastrahl (4) beaufschlagt wird, wobei während der Plasmabehandlung ein Wert für eine elektrische Kenngröße zwischen einem ersten und einem zweiten elektrischen Kontaktpunkt (54, 56, 76, 78, 90, 92) der Leiterplatte (42) gemessen wird. Weiter betrifft die Erfindung eine Vorrichtung (80) zur überwachten Plasmabehandlung einer Leiterplatte mit einer Halterung (82) zur Positionierung einer Leiterplatte (42) für eine Plasmabehandlung, mit einer Plasmaquelle (2, 50, 68, 81), die dazu eingerichtet ist, einen atmosphärischen Plasmastrahl (4) zu erzeugen, mit einer Verfahreinrichtung (84, 86), die dazu eingerichtet ist, die Plasmaquelle (2, 50) und/oder die Leiterplatte (42) für die Plasmabehandlung relativ zueinander zu verfahren, mit Kontaktierungsmitteln (88), eingerichtet zur jeweiligen elektrischen Kontaktierung eines ersten und eines zweiten Kontaktpunkts (54, 56, 76, 78, 90, 92) der Leiterplatte (42), und mit einer Messeinrichtung (52), die dazu eingerichtet ist, einen Wert für eine elektrische Kenngröße zwischen von den Kontaktierungsmitteln (88) kontaktierten Kontaktpunkten (54, 56, 76, 78, 90, 92) zu messen.