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    フラニル基含有オルガノポリシロキサン及びその製造方法
    1.
    发明申请
    フラニル基含有オルガノポリシロキサン及びその製造方法 审中-公开

    公开(公告)号：WO2022264866A1

    公开(公告)日：2022-12-22

    申请号：PCT/JP2022/022875

    申请日：2022-06-07

    申请人： 信越化学工業株式会社

    发明人： 藤田　将史

    IPC分类号： C08G77/14

    摘要： （ポリ）シロキサンに起因する柔軟性及び光架橋性を有するフラニル基含有オルガノポリシロキサン、並びに金属塩を副生せずかつ安全に製造することができる該フラニル基含有オルガノポリシロキサンの製造方法の提供。　下記平均組成式（１）で示される、数平均分子量が５００～４０，０００のフラニル基含有オルガノポリシロキサン。 （式（１）中、炭素数１～１０の１価炭化水素基等又は一般式（２）もしくは一般式（３）で表されるフラニル基であり、１分子中のＲ1のうち少なくとも１個は一般式（２）もしくは一般式（３）で表されるフラニル基である。ａは２以上の数、ｂは０以上の数、ｃは０以上の数、ｄは０以上の数で、かつ、２≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ≦１，０００である。　式（２）及び（３）中、Ｒ2及びＲ3は水素原子又は炭素数１～１０の１価炭化水素基等である。破線は結合手を示す。）

    シリコン含有レジスト下層膜形成用組成物
    4.
    发明申请
    シリコン含有レジスト下層膜形成用組成物 审中-公开

    公开(公告)号：WO2022210954A1

    公开(公告)日：2022-10-06

    申请号：PCT/JP2022/016230

    申请日：2022-03-30

    申请人： 日産化学株式会社

    发明人： 加藤　宏大 ,  柴山　亘

    IPC分类号： C08G77/14 ,  C08G77/26 ,  G03F7/11 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

    摘要： 【課題】解像度（ｈｐ）が２５ｎｍ未満といった極微細パターニングにおいても、パターン倒壊のない良好なレジストパターンを得られるシリコン含有レジスト下層膜を形成するための、シリコン含有レジスト下層膜形成用組成物を提供することを目的とする。 【解決手段】［Ａ］エステル構造を有するシロキサン単位構造を含むポリシロキサン、及び［Ｂ］溶媒を含有する、シリコン含有レジスト下層膜形成用組成物。

    CURABLE SILICONE COMPOSITION AND CURED PRODUCT THEREOF
    5.
    发明申请
    CURABLE SILICONE COMPOSITION AND CURED PRODUCT THEREOF 审中-公开

    公开(公告)号：WO2022072271A1

    公开(公告)日：2022-04-07

    申请号：PCT/US2021/052167

    申请日：2021-09-27

    申请人： DOW SILICONES CORPORATION

    发明人： CHON, Jina

    IPC分类号： C08L83/06 ,  C08G77/14

    摘要： A curable silicone composition is provided. The composition comprises: (A) an epoxy-functional silicone resin having monovalent aromatic hydrocarbon groups; (B) an epoxy-functional silicone; and (C) a mixture of cationic photoinitiators comprising: (C-1) an iodonium salt type cationic photoinitiator and (C-2) a sulfonium salt type cationic photoinitiator. The composition has excellent curability with UV radiation, and further with heating, generally forms a cured product with excellent transparency.

    INFLATABLE SAFETY DEVICES
    7.
    发明申请
    INFLATABLE SAFETY DEVICES 审中-公开

    公开(公告)号：WO2021262828A1

    公开(公告)日：2021-12-30

    申请号：PCT/US2021/038648

    申请日：2021-06-23

    申请人： DOW SILICONES CORPORATION

    发明人： SANTOS, Elizabeth M.

    IPC分类号： B60R21/235 ,  C08L83/04 ,  C09J183/04 ,  C08G77/12 ,  C08G77/14 ,  C08G77/20 ,  C08G77/18 ,  B60R2021/23514

    摘要： This disclosure describes inflatable articles such as airbags for inflatable safety devices for a vehicle passenger-protecting system, a process for manufacturing said inflatable articles, hydrosilylation curable silicone elastomer compositions and their uses in assembling said inflatable safety devices. The composition used comprised an organopolysiloxane based additive which comprises at least one, alternatively at least two Si-H groups per molecule and at least one, alternatively at least two functional groups per molecule, selected from anhydride groups and epoxy groups.

    カテコール官能性オルガノポリシロキサン、その製造方法及び粉体処理剤
    8.
    发明申请
    カテコール官能性オルガノポリシロキサン、その製造方法及び粉体処理剤 审中-公开

    公开(公告)号：WO2021246276A1

    公开(公告)日：2021-12-09

    申请号：PCT/JP2021/020143

    申请日：2021-05-27

    申请人： 信越化学工業株式会社

    发明人： 橋本　龍太

    IPC分类号： C08G77/14 ,  C08G77/38 ,  A61Q17/04 ,  C08L83/06 ,  A61K8/29 ,  A61K8/893 ,  A61K8/92

    摘要： １分子内にカテコール構造を有するオルガノポリシロキサン、および該オルガノポリシロキサンから構成され、分散性、流動性、及び経時安定性に優れた分散体を与える粉体処理剤の提供。　下記式（１）で表されるカテコール官能性オルガノポリシロキサン。　（式（１）中、Ｒ1はそれぞれ独立に、非置換または置換の炭素数１～６の１価炭化水素基であり、Ｒ2はそれぞれ独立に、非置換または置換の炭素数１～６の１価炭化水素基、又は下記式（２）で表される置換基であり、ａ、ｂ、ｃ及びｄは０または正数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝２～１，０００を満たす。但し、１分子あたり少なくとも１つのＲ2は式（２）で表される置換基である。上記式（１）の各繰り返し単位中の酸素原子は、他の繰り返し単位中の酸素原子と共通する。）（式（２）中、Ｙ1は、非置換または置換の炭素数２～６の２価炭化水素基である。前記式（２）中、波線で区切られた結合手は、前記式（１）において、ケイ素原子と結合するものである。）

    レジスト下層膜形成用組成物及び半導体基板の製造方法
    9.
    发明申请
    レジスト下層膜形成用組成物及び半導体基板の製造方法 审中-公开

    公开(公告)号：WO2021215240A1

    公开(公告)日：2021-10-28

    申请号：PCT/JP2021/014642

    申请日：2021-04-06

    申请人： ＪＳＲ株式会社

    发明人： 瀬古　智昭 ,  酒井　達也 ,  酒井　一憲 ,  庵野　祐亮

    IPC分类号： C08G77/14 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20

    摘要： 電子線又は極端紫外線リソグラフィーにおける金属含有レジストの下層膜の形成に用いられ、金属含有レジストパターンの倒壊を抑制し、微細な金属含有レジストパターンを形成できるレジスト下層膜を形成することができる組成物等を提供する。本発明は、電子線又は極端紫外線リソグラフィーにおける金属含有レジスト膜の下層膜を形成するために用いられるレジスト下層膜形成用組成物であって、下記式（１）で表される第１構造単位を有するポリシロキサン化合物と、溶媒とを含有するレジスト下層膜形成用組成物である。