发明授权
CN100359635C 基板处理装置
失效 - 权利终止
- 专利标题： 基板处理装置
- 专利标题（英）： Substrate processing apparatus
-
申请号： CN200410006779.4申请日： 2004-02-26
-
公开(公告)号： CN100359635C公开(公告)日： 2008-01-02
- 发明人: 前川直嗣 , 广江敏朗
- 申请人： 大日本屏影象制造株式会社
- 申请人地址： 日本京都府京都市
- 专利权人： 大日本屏影象制造株式会社
- 当前专利权人： 大日本屏影象制造株式会社
- 当前专利权人地址： 日本京都府京都市
- 代理机构： 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 张天安; 杨松龄
- 优先权： 49416/03 2003.02.26 JP; 425163/03 2003.12.22 JP
- 主分类号： H01L21/00
- IPC分类号： H01L21/00 ; B08B3/00 ; B08B7/00
摘要：
根据本发明的基板处理装置被气密性部件包围，其内部空间进一步用气密性部件分割成水洗干燥处理室，第一药液处理室，第二药液处理室，基板搬运室。向各室运入运出基板用的开口部能够用备有密闭机构的开闭机构打开和关闭。因此，能够在与包含氧的外部气体隔离的环境中进行正在处理当中的基板的搬运，可以抑制搬运过程中的基板表面的不需要的氧化膜及水渍的发生。此外，可以减少为了不使含有药液的气氛向装置外部扩散用的排气量。
公开/授权文献
- CN1542907A 基板处理装置 公开/授权日：2004-11-03
IPC分类:
