发明授权
CN100478733C 光谱系统和用于确定所关心容积位置的方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 光谱系统和用于确定所关心容积位置的方法
- 专利标题(英): Spectroscopic system amd method for determining concerned volume position
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申请号: CN200580020076.X申请日: 2005-06-07
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公开(公告)号: CN100478733C公开(公告)日: 2009-04-15
- 发明人: M·C·范比克 , G·卢卡森 , M·范德沃特 , W·H·J·伦森 , D·J·德弗里斯
- 申请人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
- 申请人地址: 荷兰艾恩德霍芬
- 专利权人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
- 当前专利权人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
- 当前专利权人地址: 荷兰艾恩德霍芬
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 龚海军; 刘杰
- 优先权: 04102769.9 2004.06.17 EP
- 国际申请: PCT/IB2005/051848 2005.06.07
- 国际公布: WO2005/124423 EN 2005.12.29
- 进入国家日期: 2006-12-18
- 主分类号: G02B21/24
- IPC分类号: G02B21/24 ; G01J3/28
摘要:
本发明提供一种用于光谱系统(400)的自动聚焦机构,所述光谱系统适用于确定所关心容积的性质。该所关心容积具有随时间变化的光学性质。本发明提供一种测量装置,该装置适用于测量所关心容积的光学性质的波动,从而确定所关心容积的位置(428)。该光谱系统还适用于将激发光束(418)聚焦到确定的所关心容积中,并用于收集从所关心容积发出的返回辐射(420)以用于光谱分析。优选地,激发光束(428)的非弹性散射辐射与用于光谱分析的弹性散射辐射分开。再利用激发光束的弹性散射辐射来测量所关心容积的光学性质的波动。利用控制回路,使得波动的振幅和/或强度能够最大化,该最大值固有地规定了所关心容积的位置,例如毛细血管(450)的中心。
公开/授权文献
- CN1969215A 用于光谱系统的自动聚焦机构 公开/授权日:2007-05-23