公开(公告)号：CN1969215A

公开(公告)日：2007-05-23

申请号：CN200580020076.X

申请日：2005-06-07

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： M·C·范比克 ,  G·卢卡森 ,  M·范德沃特 ,  W·H·J·伦森 ,  D·J·德弗里斯

IPC: G02B21/24

CPC classification number: G02B21/247 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0237 ,  G01J3/44 ,  G01N21/645 ,  G01N21/65 ,  G01N2021/6463 ,  G01N2021/653 ,  G01N2021/655

Abstract: 本发明提供一种用于光谱系统(400)的自动聚焦机构，所述光谱系统适用于确定所关心容积的性质。该所关心容积具有随时间变化的光学性质。本发明提供一种测量装置，该装置适用于测量所关心容积的光学性质的波动，从而确定所关心容积的位置(428)。该光谱系统还适用于将激发光束(418)聚焦到确定的所关心容积中，并用于收集从所关心容积发出的返回辐射(420)以用于光谱分析。优选地，激发光束(428)的非弹性散射辐射与用于光谱分析的弹性散射辐射分开。再利用激发光束的弹性散射辐射来测量所关心容积的光学性质的波动。利用控制回路，使得波动的振幅和/或强度能够最大化，该最大值固有地规定了所关心容积的位置，例如毛细血管(450)的中心。

公开(公告)号：CN100478733C

公开(公告)日：2009-04-15

申请号：CN200580020076.X

申请日：2005-06-07

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： M·C·范比克 ,  G·卢卡森 ,  M·范德沃特 ,  W·H·J·伦森 ,  D·J·德弗里斯

IPC: G02B21/24 ,  G01J3/28

CPC classification number: G02B21/247 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0237 ,  G01J3/44 ,  G01N21/645 ,  G01N21/65 ,  G01N2021/6463 ,  G01N2021/653 ,  G01N2021/655

Abstract: 本发明提供一种用于光谱系统(400)的自动聚焦机构，所述光谱系统适用于确定所关心容积的性质。该所关心容积具有随时间变化的光学性质。本发明提供一种测量装置，该装置适用于测量所关心容积的光学性质的波动，从而确定所关心容积的位置(428)。该光谱系统还适用于将激发光束(418)聚焦到确定的所关心容积中，并用于收集从所关心容积发出的返回辐射(420)以用于光谱分析。优选地，激发光束(428)的非弹性散射辐射与用于光谱分析的弹性散射辐射分开。再利用激发光束的弹性散射辐射来测量所关心容积的光学性质的波动。利用控制回路，使得波动的振幅和/或强度能够最大化，该最大值固有地规定了所关心容积的位置，例如毛细血管(450)的中心。