- 专利标题: 具有氮化物电荷存储栅的与非型快闪存储器及其制造方法
- 专利标题(英): Nand flash memory with nitride charge storage gates and fabrication process and manufacturing method thereof
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申请号: CN200510077923.8申请日: 2005-06-15
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公开(公告)号: CN100481459C公开(公告)日: 2009-04-22
- 发明人: 陈秋峰 , 范德慈 , 普拉蒂普·滕塔索德
- 申请人: 西利康存储技术股份有限公司
- 申请人地址: 美国加利福尼亚州
- 专利权人: 西利康存储技术股份有限公司
- 当前专利权人: 西利康存储技术股份有限公司
- 当前专利权人地址: 美国加利福尼亚州
- 代理机构: 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 李晓舒; 魏晓刚
- 优先权: 10/869,475 2004.06.15 US
- 主分类号: H01L27/105
- IPC分类号: H01L27/105 ; H01L27/115 ; G11C16/04 ; G11C17/00 ; H01L21/8246 ; H01L21/8247
摘要:
一种NAND快闪存储单元阵列,其具有在位线扩散区和共源扩散区之间成行设置的堆叠成对的控制栅和电荷存储栅,选择栅位于每对堆叠的栅的两侧。每个堆叠对中的栅相互自对准,并且所述电荷存储栅是氮化物或氮化物和氧化物的组合。通过从所述硅衬底到电荷存储栅的热电子注入以在电荷存储栅中建立负电荷来完成编程。通过从电荷存储栅到硅衬底的沟道隧穿或者从硅衬底到电荷存储栅的热空穴注入完成擦除。所述阵列被偏置使得所有存储单元可以被同时擦除,而编程是可位选的。
公开/授权文献
- CN1713385A 具有氮化物电荷存储栅的与非型快闪存储器及其制造方法 公开/授权日:2005-12-28
IPC分类: