发明授权
CN100576370C 制造双轴结构缓冲层的方法及相关产品、装置和系统
失效 - 权利终止
- 专利标题: 制造双轴结构缓冲层的方法及相关产品、装置和系统
- 专利标题(英): Method of producing biaxially textured buffer layers and related articles, devices and systems
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申请号: CN200480022814.X申请日: 2004-06-09
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公开(公告)号: CN100576370C公开(公告)日: 2009-12-30
- 发明人: 大卫·P·诺顿 , 文卡特·塞尔瓦马尼卡姆
- 申请人: 佛罗里达大学研究基金会公司
- 申请人地址: 美国佛罗里达
- 专利权人: 佛罗里达大学研究基金会公司
- 当前专利权人: 佛罗里达大学研究基金会公司
- 当前专利权人地址: 美国佛罗里达
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 刘晓峰
- 优先权: 10/457,184 2003.06.09 US
- 国际申请: PCT/US2004/018319 2004.06.09
- 国际公布: WO2005/022590 EN 2005.03.10
- 进入国家日期: 2006-02-08
- 主分类号: H01B12/00
- IPC分类号: H01B12/00 ; H01F6/00 ; H01L39/00
摘要:
一种超导体产品,包括衬底和设置在所述衬底上的第一缓冲膜。第一缓冲膜具有单轴晶体结构,特征在于(i)在第一缓冲膜的平面外延伸的第一结晶方向上的结构在第一缓冲膜的平面内延伸的第二方向上没有明显的结构,或者(ii)在第一缓冲膜的平面内延伸的第一结晶方向上的结构在第一缓冲膜的平面外延伸的第二方向上没有明显的结构。第二缓冲膜被设置在第一缓冲膜上,第二缓冲膜具有双轴晶体结构。可以在所述第二缓冲膜上设置超导体层。离子辅助沉积(IBAD)可被用于沉积第二缓冲膜。
公开/授权文献
- CN1833294A 制造双轴结构缓冲层的方法及相关产品、装置和系统 公开/授权日:2006-09-13