发明公开
CN101064362A 场效应晶体管及其制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 场效应晶体管及其制造方法
- 专利标题(英): Field effect transistor and method of fabricating the same
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申请号: CN200710084821.8申请日: 2007-02-27
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公开(公告)号: CN101064362A公开(公告)日: 2007-10-31
- 发明人: 藤森正成 , 桥诘富博 , 安藤正彦
- 申请人: 株式会社日立制作所
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 株式会社日立制作所
- 当前专利权人: 株式会社日立制作所
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京银龙知识产权代理有限公司
- 代理商 熊志诚
- 优先权: 2006-121540 2006.04.26 JP
- 主分类号: H01L51/40
- IPC分类号: H01L51/40 ; H01L51/05 ; H01L51/10
摘要:
本发明提供一种具有使沟道传导的载流子的移动度比以前的有机TFT大的值的TFT制造方法。场效应晶体管的制造方法的特征是,在衬底上设置形成图形的栅电极,在上述衬底上和上述栅电极上设置栅绝缘膜,在上述栅绝缘膜上分开设置源电极和漏电极,在上述源电极和上述漏电极之间设置应成为沟道的区域,该区域与上述源电极或上述漏电极中的任一方的边界线是直线状,上述该区域和上述漏电极或上述源电极中的另一方的边界线是非直线状,而且,该边界线是连续或不连续的形状,该边界部分有多个凹部,准备上述该区域表面有亲水性、上述该区域的周围区域具有疏水性的构件,向上述该区域供给含有半导体有机分子的溶液,并干燥上述溶液。
公开/授权文献
- CN100559625C 场效应晶体管及其制造方法 公开/授权日:2009-11-11
IPC分类: