发明公开
- 专利标题: 光致抗蚀剂组合物
- 专利标题(英): Photoresist compositions
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申请号: CN200710096934.X申请日: 2007-04-19
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公开(公告)号: CN101071267A公开(公告)日: 2007-11-14
- 发明人: 金东敏 , 金柄郁 , 朴大然 , 金周赫 , 崔基植 , 金贞元 , 李起范 , 卞哲基 , 金纹秀 , 金炳厚 , 边滋勋 , 申在浩
- 申请人: 株式会社东进世美肯
- 申请人地址: 韩国仁川市
- 专利权人: 株式会社东进世美肯
- 当前专利权人: 株式会社东进世美肯
- 当前专利权人地址: 韩国仁川市
- 代理机构: 北京金信立方知识产权代理有限公司
- 代理商 朱梅; 徐志明
- 优先权: 10-2006-0041089 2006.05.08 KR
- 主分类号: G03F7/016
- IPC分类号: G03F7/016 ; G03F7/004
摘要:
本发明涉及一种用于制造液晶显示装置的电路、半导体集成电路等微细电路的光致抗蚀剂组合物,具体地涉及一种包含(a)由下述化学式1表示的酚醛清漆树脂、(b)重氮类感光性化合物、(c)有机溶剂的光致抗蚀剂组合物。在化学式1中,R表示氢、羟基或甲基,n是3至20的整数。本发明所涉及的光致抗蚀剂组合物,由于加入了酚醛清漆树脂,因而具有可提高光致光致抗蚀剂的耐热性及图案均匀性的效果。所述酚醛清漆树脂由间甲酚、对甲酚、及邻羟苯甲醛缩聚合而成。
公开/授权文献
- CN101071267B 光致抗蚀剂组合物 公开/授权日:2012-01-25