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公开(公告)号：CN101071267A
公开(公告)日：2007-11-14
申请号：CN200710096934.X
申请日：2007-04-19
申请人： 株式会社东进世美肯
摘要： 本发明涉及一种用于制造液晶显示装置的电路、半导体集成电路等微细电路的光致抗蚀剂组合物，具体地涉及一种包含(a)由下述化学式1表示的酚醛清漆树脂、(b)重氮类感光性化合物、(c)有机溶剂的光致抗蚀剂组合物。在化学式1中，R表示氢、羟基或甲基，n是3至20的整数。本发明所涉及的光致抗蚀剂组合物，由于加入了酚醛清漆树脂，因而具有可提高光致光致抗蚀剂的耐热性及图案均匀性的效果。所述酚醛清漆树脂由间甲酚、对甲酚、及邻羟苯甲醛缩聚合而成。
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公开(公告)号：CN101071268B
公开(公告)日：2012-03-21
申请号：CN200710096935.4
申请日：2007-04-19
申请人： 株式会社东进世美肯
摘要： 本发明涉及一种用于制备液晶显示装置的电路、半导体集成电路等微细电路的光致抗蚀剂组合物，具体地涉及一种包含(a)由下述化学式1表示的酚醛清漆树脂、(b)重氮类感光性化合物、(c)有机溶剂的光致抗蚀剂组合物。在上述化学式1中，R表示氢、羟基或甲基，n是3至20的整数。本发明所涉及的光致抗蚀剂组合物，由于加入了酚醛清漆树脂，因而具有可提高光致抗蚀剂的耐热性及图案均匀性的效果。所述酚醛清漆树脂由间甲酚、对甲酚、间苯二酚及邻羟苯甲醛缩合而成。[化学式1]
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公开(公告)号：CN101738854A
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：CN200910209666.7
申请日：2009-11-04
申请人： 株式会社东进世美肯
摘要： 本发明涉及一种显示器元件用图案形成方法，其用于形成可适用于剥离工序的凹割形状轮廓。本发明通过使用特定结构的聚合化合物来增加感光速度，并可在形成多层光刻胶层时容易形成凹割形状轮廓，从而容易适用于剥离工序。另外，还可以形成大厚度的图案，并且可以省略工艺中的蚀刻工序，从而可以实现工序简单化。
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公开(公告)号：CN101071268A
公开(公告)日：2007-11-14
申请号：CN200710096935.4
申请日：2007-04-19
申请人： 株式会社东进世美肯
摘要： 本发明涉及一种用于制备液晶显示装置的电路、半导体集成电路等微细电路的光致抗蚀剂组合物，具体地涉及一种包含（a）由下述化学式1表示的酚醛清漆树脂、（b）重氮类感感光性化合物、（c）有机溶剂的光致抗蚀性组合物。在上述化学式1中，R表示氢、羟基或甲基，n是3至20的整数。本发明所涉及的光致抗蚀性组合物，由于加入了酚醛清漆树脂，因而具有可提高光致抗蚀性的耐热性及图案均匀性的效果。所述酚醛清漆树脂由间甲酚、对甲酚、间苯二酚及邻苯甲醛缩合而成。
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公开(公告)号：CN101071267B
公开(公告)日：2012-01-25
申请号：CN200710096934.X
申请日：2007-04-19
申请人： 株式会社东进世美肯
摘要： 本发明涉及一种用于制造液晶显示装置的电路、半导体集成电路等微细电路的光致抗蚀剂组合物，具体地涉及一种包含(a)由下述化学式1表示的酚醛清漆树脂、(b)重氮类感光性化合物、(c)有机溶剂的光致抗蚀剂组合物。在化学式1中，R表示氢、羟基或甲基，n是3至20的整数。本发明所涉及的光致抗蚀剂组合物，由于加入了酚醛清漆树脂，因而具有可提高光致光致抗蚀剂的耐热性及图案均匀性的效果。所述酚醛清漆树脂由间甲酚、对甲酚、及邻羟苯甲醛缩聚合而成。[化学式1]
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公开(公告)号：CN101071266A
公开(公告)日：2007-11-14
申请号：CN200710096933.5
申请日：2007-04-19
申请人： 株式会社东进世美肯
摘要： 本发明涉及一种适于制造液晶显示装置的电路、半导体集成电路等微细电路的光致抗蚀剂组合物，具体涉及一种包含由下述化学式1表示的酚醛清漆树脂、重氮类感光性化合物、有机溶剂的光致抗蚀剂组合物。上述化学式1中，R表示氢、羟基或甲基，n是3至20的整数。本发明的光致抗蚀剂组合物，由于加入了酚醛清漆树脂，具有优异的耐热性及分辨率，且可提高图案均匀性。所述酚醛清漆树脂由芳香族醇聚合而成，所述芳香族醇包含间甲酚、对甲酚、间苯二酚。
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