碳纳米管键合焊盘结构及其制造方法
摘要:
一种用于集成电路(IC)的键合焊盘结构(300),使用碳纳米管以提高线键合(360)的强度和弹性。在示例实施例中,在IC衬底上有键合焊盘结构(300),该键合焊盘结构包括:具有顶表面和底表面的第一导电层(310),底表面附着于IC衬底上。在第一导电层(310)的顶表面上沉积电介质层(320),该电介质层具有通路阵列(325),通路阵列中填充有碳纳米管材料(325),该碳纳米管材料(325)与第一导电层(310)电耦合。存在着具有顶表面和底表面的第二导电层(330),该第二导电层的底表面与碳纳米管材料(325)电耦合。该实施例的特征也可以包括由碳纳米管材料组成的第一(410、510)或第二(430、530)导电层。
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