- 专利标题: 粘接剂图案形成用组合物、使用其获得的层压结构物及其制造方法
- 专利标题(英): Composition for forming adhesive pattern, multilayer structure obtained by using same, and method for producing such multilayer structure
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申请号: CN200680019288.0申请日: 2006-05-30
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公开(公告)号: CN101189124A公开(公告)日: 2008-05-28
- 发明人: 宇敷滋 , 槙田昇平 , 日马征智
- 申请人: 太阳油墨制造株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 太阳油墨制造株式会社
- 当前专利权人: 太阳控股株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京林达刘知识产权代理事务所
- 代理商 刘新宇; 李茂家
- 优先权: 158340/2005 2005.05.31 JP
- 国际申请: PCT/JP2006/310799 2006.05.30
- 国际公布: WO2006/129669 JA 2006.12.07
- 进入国家日期: 2007-11-30
- 主分类号: B32B7/14
- IPC分类号: B32B7/14 ; B29C65/52 ; C09J11/06 ; C09J157/00 ; C09J163/00 ; G02B6/00
摘要:
本发明在作为被粘接构件的基板(1)的表面,涂布含有(A)1分子中同时具有羧基和烯属不饱和键且具有酸值30~160mgKOH/g的含羧基感光性预聚物、(B)环氧树脂及(C)光聚合引发剂作为必须成分的光固化型热固化型粘接剂,通过光掩模(3)用活性能量射线进行选择性图案曝光后,以碱水溶液进行显影除去未曝光部分,从而形成粘接剂图案(4)。接着,将作为应接合的粘接构件的薄片构件5压接在上述粘接剂图案上,并将上述粘接剂图案热固化,得到层压结构物。
公开/授权文献
- CN101189124B 粘接剂图案形成用组合物、使用其获得的层压结构物及其制造方法 公开/授权日:2010-11-24