本发明公开了属于集成电路制造技术范围的一种采用时间序列分析预测-校正集成电路制造工艺控制方法。将与集成电路制造工艺结果有关的数据，通过建立工艺模型的方式进行分离，剥离出其中与工艺结果有关且易于进行调控的工艺参数；其他参数的影响值按时间顺序排列，形成时间序列；采用时间序列分析的算法处理，例如应用ARMA自回归移动平均模型的建模方法，对该时间序列的总的变化趋势(因而工艺结果的可能的变化趋势)进行预测；通过调整易于调控的工艺参数，补偿所预测到的工艺波动，使工艺结果达到平稳，从而实现工艺条件的动态化处理。在无需硬件投入，不明显增加制造成本的前提下，取得更好的工艺控制效果，从而大大提高工艺结果的稳定性。