发明公开
CN101266920A 半导体器件的制造装置及制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 半导体器件的制造装置及制造方法
- 专利标题(英): Semiconductor device manufacturing device and semiconductor-device manufacturing method
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申请号: CN200810083662.4申请日: 2008-03-14
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公开(公告)号: CN101266920A公开(公告)日: 2008-09-17
- 发明人: 芝田元二郎 , 牛岛彰
- 申请人: 株式会社东芝
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 株式会社东芝
- 当前专利权人: 株式会社东芝
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 永新专利商标代理有限公司
- 代理商 胡建新
- 优先权: 067974/2007 2007.03.16 JP
- 主分类号: H01L21/00
- IPC分类号: H01L21/00
摘要:
一种半导体器件的制造装置和制造方法,即使在半导体芯片的尺寸不同时,也可以容易地从粘接片剥离半导体芯片。在半导体器件的制造装置中,具有:保持部,对在一个面上粘贴有多个半导体芯片(1)的粘接片(6)进行保持;多个顶起突部(30a、30b),从粘接片(6)的另一个面侧顶起半导体芯片(1);以及,滑动机构(33),使至少一个顶起突部(30b)向可改变顶起突部(30a、30b)间隔的方向滑动。
公开/授权文献
- CN101266920B 半导体器件的制造装置及制造方法 公开/授权日:2010-06-02
IPC分类: