发明公开
- 专利标题: 一种发红光的掺氧砷化镓多晶薄膜的制备方法
- 专利标题(英): Preparation of glowing oxygen doped gallium arsenide polycrystalline film
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申请号: CN200810079375.6申请日: 2008-09-10
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公开(公告)号: CN101372760A公开(公告)日: 2009-02-25
- 发明人: 许并社 , 梁建 , 马淑芳 , 郭普庆 , 赵君芙 , 黄平 , 王玉
- 申请人: 太原理工大学
- 申请人地址: 山西省太原市迎泽西大街79号
- 专利权人: 太原理工大学
- 当前专利权人: 山西飞虹微纳米光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 山西省太原市迎泽西大街79号
- 代理机构: 太原市科瑞达专利代理有限公司
- 代理商 江淑兰
- 主分类号: C30B29/42
- IPC分类号: C30B29/42 ; C30B23/00 ; H01L21/203
摘要:
本发明涉及一种发红光的掺氧砷化镓多晶薄膜的制备方法,它是以砷化镓、氧化镓、氧化铟为原料,以砷化镓基片为薄膜生长载体,以盐酸、无水乙醇、双氧水、去离子水为清洗剂,以氩气为载气和保护气体,以次氯酸纳、氢氧化钠、磷酸、去离子水为废气回收剂,制备是在管式高温炉中进行的,在石英管内高温区段置放L形石英舟,在L形石英舟左部放置原料粉末,右部斜置砷化镓基片,在800±5℃状态下,在氩气气氛中,原料粉末进行形态转换、气相沉积、薄膜生长,在基片上生成灰黑色掺氧砷化镓多晶薄膜,薄膜为胶粘式颗粒联结而成波浪状,发红光,制备中的有毒气体进行回收,不污染环境,此制备方法工艺流程短、薄膜成形快、产物纯度高,可达99%。
公开/授权文献
- CN101372760B 一种发红光的掺氧砷化镓多晶薄膜的制备方法 公开/授权日:2011-08-24
IPC分类: