发明授权
- 专利标题: 防护薄膜框架
- 专利标题(英): Defend pellicle frame
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申请号: CN200810212835.8申请日: 2008-09-05
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公开(公告)号: CN101382730B公开(公告)日: 2015-02-04
- 发明人: 白崎享
- 申请人: 信越化学工业株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 信越化学工业株式会社
- 当前专利权人: 信越化学工业株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 陶凤波
- 优先权: 230289/07 2007.09.05 JP
- 主分类号: G03F1/64
- IPC分类号: G03F1/64
摘要:
本发明的目的在于提供一种优异的防护薄膜框架,其能防止因为防护薄膜张力或使用处理所造成的框架歪曲,并能防止因为黏贴防护薄膜组件所造成的光罩歪曲。为达成上述目的,在半导体平板印刷所使用的防护薄膜框架中,用弹性系数不同的2种以上的材料接合制成框架。其中,更宜用弹性系数10GPa以下的材料与弹性系数50GPa以上的材料制成框架,或在垂直防护薄膜膜面方向上以多层接合的方式制成防护薄膜框架,或将弹性系数大的材料堆迭在最外层,或用相反的堆迭构造。
公开/授权文献
- CN101382730A 防护薄膜框架 公开/授权日:2009-03-11