发明授权
CN101421433B 用于联合改变材料、单元工艺和工艺顺序的方法和装置
失效 - 权利终止
- 专利标题： 用于联合改变材料、单元工艺和工艺顺序的方法和装置
- 专利标题（英）： Method and apparatus for combinatorially varying materials, unit process and process sequence
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申请号： CN200780012793.7申请日： 2007-02-12
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公开(公告)号： CN101421433B公开(公告)日： 2013-11-06
- 发明人: 托尼·P·江 , 戴维·E·拉佐夫斯凯 , 库尔特·魏纳 , 格斯·平托 , 托马斯·布西埃 , 萨莎·格雷尔
- 申请人： 分子间公司
- 申请人地址： 美国加利福尼亚州
- 专利权人： 分子间公司
- 当前专利权人： 分子间公司
- 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚州
- 代理机构： 北京邦信阳专利商标代理有限公司
- 代理商 王昭林; 崔华
- 优先权： 11/352,077 2006.02.10 US; 11/419,174 2006.05.18 US
- 国际申请： PCT/US2007/003710 2007.02.12
- 国际公布： WO2007/095194 EN 2007.08.23
- 进入国家日期： 2008-10-09
- 主分类号： C23C16/52
- IPC分类号： C23C16/52 ; G01N33/20 ; H01L21/66 ; G01R31/26 ; A23B4/12 ; A23J3/34
摘要：
提供一种利用材料、单元工艺、和工艺顺序的改变分析和优化半导体制造技术的方法。在该方法中，分析半导体制造工艺顺和构造的子集用于优化。在执行制造工艺顺序子集期间，改变用于创建某种结构的材料、单元工艺、和工艺顺序。在联合处理期间，在半导体衬底的离散区域之间改变材料、单元工艺或工艺顺序，其中在每一区域内，该工艺产生基本均匀或一致的结果，该结果代表商品半导体制造过程的结果。还提供一种用于优化工艺顺序的设备。
公开/授权文献
- CN101421433A 用于联合改变材料、单元工艺和工艺顺序的方法和装置 公开/授权日：2009-04-29
IPC分类:
