发明公开
CN101434055A 纳米胶体射流抛光装置
无效 - 撤回
- 专利标题: 纳米胶体射流抛光装置
- 专利标题(英): Nano colloid flow shooting and polishing device
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申请号: CN200810209767.X申请日: 2008-12-24
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公开(公告)号: CN101434055A公开(公告)日: 2009-05-20
- 发明人: 张飞虎 , 宋孝宗 , 张勇
- 申请人: 哈尔滨工业大学
- 申请人地址: 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
- 专利权人: 哈尔滨工业大学
- 当前专利权人: 哈尔滨工业大学
- 当前专利权人地址: 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
- 代理机构: 哈尔滨市松花江专利商标事务所
- 代理商 张果瑞
- 主分类号: B24C5/00
- IPC分类号: B24C5/00 ; B24B29/00
摘要:
纳米胶体射流抛光装置,它涉及一种射流抛光装置。本发明解决了现有的纳米胶体射流抛光过程中存在的纳米胶体易被污染、纳米胶体的喷射能量难以控制、自由基-羟基与工件表面原子的化学吸附难以实现、胶体中纳米颗粒与工件表面原子发生的可逆聚合分解反应难以保证和工件表面的纳米颗粒及工件表面原子无法利用流体黏附作用移除的问题。本发明的第一柔性密封囊安装在第一高压容器内,第四管路的下端与第一柔性密封囊的上端连通,第四管路的上端与第一两位三通控制阀连通,封闭的纳米胶体容器与第一两位三通控制阀连通,蠕动泵安装在第五管路上。本发明实现了压力油与纳米胶体的独立循环,喷射能量得到控制,移除了工件表面的纳米颗粒及工件表面原子。
IPC分类:
B | 作业;运输 |
B24 | 磨削;抛光 |
B24C | 磨料或微粒材料的喷射 |
B24C5/00 | 用于产生磨料喷流的设备或附件 |