纳米胶体射流抛光装置
摘要:
纳米胶体射流抛光装置,它涉及一种射流抛光装置。本发明解决了现有的纳米胶体射流抛光过程中存在的纳米胶体易被污染、纳米胶体的喷射能量难以控制、自由基-羟基与工件表面原子的化学吸附难以实现、胶体中纳米颗粒与工件表面原子发生的可逆聚合分解反应难以保证和工件表面的纳米颗粒及工件表面原子无法利用流体黏附作用移除的问题。本发明的第一柔性密封囊安装在第一高压容器内,第四管路的下端与第一柔性密封囊的上端连通,第四管路的上端与第一两位三通控制阀连通,封闭的纳米胶体容器与第一两位三通控制阀连通,蠕动泵安装在第五管路上。本发明实现了压力油与纳米胶体的独立循环,喷射能量得到控制,移除了工件表面的纳米颗粒及工件表面原子。
0/0