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公开(公告)号：CN101434055A
公开(公告)日：2009-05-20
申请号：CN200810209767.X
申请日：2008-12-24
申请人： 哈尔滨工业大学
摘要： 纳米胶体射流抛光装置，它涉及一种射流抛光装置。本发明解决了现有的纳米胶体射流抛光过程中存在的纳米胶体易被污染、纳米胶体的喷射能量难以控制、自由基-羟基与工件表面原子的化学吸附难以实现、胶体中纳米颗粒与工件表面原子发生的可逆聚合分解反应难以保证和工件表面的纳米颗粒及工件表面原子无法利用流体黏附作用移除的问题。本发明的第一柔性密封囊安装在第一高压容器内，第四管路的下端与第一柔性密封囊的上端连通，第四管路的上端与第一两位三通控制阀连通，封闭的纳米胶体容器与第一两位三通控制阀连通，蠕动泵安装在第五管路上。本发明实现了压力油与纳米胶体的独立循环，喷射能量得到控制，移除了工件表面的纳米颗粒及工件表面原子。
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公开(公告)号：CN101462256A
公开(公告)日：2009-06-24
申请号：CN200910071276.8
申请日：2009-01-15
申请人： 哈尔滨工业大学
摘要： 应用纳米胶体射流抛光元件表面的方法，它涉及一种应用胶体射流抛光元件的方法。本发明解决了现有的抛光方法难以使元件表面达到超光滑表面的要求或能达到超光滑表面的要求但加工成本过高的问题。本发明方法如下：在射流压力为0.1MPa～10MPa、喷射速度为10～200m/s的条件下将纳米胶体喷射于元件表面；其中所述的纳米胶体的动力粘度为0.001～0.02N·s/m2、pH值为8～12。本发明方法适用于光学玻璃、微晶玻璃、半导体材料及单晶材料等硬脆材料的超精密、超光滑抛光，经过抛光后元件表面粗糙度小于1nm(Rms)，达到了超光滑表面的要求。
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公开(公告)号：CN101670556B
公开(公告)日：2011-01-05
申请号：CN200910308691.0
申请日：2009-10-23
申请人： 哈尔滨工业大学
摘要： 胶体液流动压空化射流抛光装置及方法，它涉及一种抛光装置及方法。本发明为解决现有超光滑表面抛光方法加工效率低、成本高、工件材料适应性受限以及现有的超光滑表面抛光装置存在设备复杂、维护成本高的问题。装置：空化射流器固定在支架上，空化射流器的输入端通过管路与第一液流换向阀的出口连接。方法：一、胶体抛光液面淹没被抛光工件10～200mm；二、空化射流器的油压为0.5～15MPa；三、空化射流压力为0.5～15MPa；四、空化射流器的喷口设置在胶体抛光液中，空化射流器以15～250m/s的速度喷向工件，抛光后取出工件即为抛光工件。本发明用于光学玻璃、微晶玻璃、半导体材料及单晶材料的超精密、超光滑抛光。
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公开(公告)号：CN101670556A
公开(公告)日：2010-03-17
申请号：CN200910308691.0
申请日：2009-10-23
申请人： 哈尔滨工业大学
摘要： 胶体液流动压空化射流抛光装置及方法，它涉及一种抛光装置及方法。本发明为解决现有超光滑表面抛光方法加工效率低、成本高、工件材料适应性受限以及现有的超光滑表面抛光装置存在设备复杂、维护成本高的问题。装置：空化射流器固定在支架上，空化射流器的输入端通过管路与第一液流换向阀的出口连接。方法：一、胶体抛光液面淹没被抛光工件10～200mm；二、空化射流器的油压为0.5～15MPa；三、空化射流压力为0.5～15MPa；四、空化射流器的喷口设置在胶体抛光液中，空化射流器以15～250m/s的速度喷向工件，抛光后取出工件即为抛光工件。本发明用于光学玻璃、微晶玻璃、半导体材料及单晶材料的超精密、超光滑抛光。
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公开(公告)号：CN101462256B
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN200910071276.8
申请日：2009-01-15
申请人： 哈尔滨工业大学
摘要： 应用纳米胶体射流抛光元件表面的方法，它涉及一种应用胶体射流抛光元件的方法。本发明解决了现有的抛光方法难以使元件表面达到超光滑表面的要求或能达到超光滑表面的要求但加工成本过高的问题。本发明方法如下：在射流压力为0.1MPa～10MPa、喷射速度为10～200m/s的条件下将纳米胶体喷射于元件表面；其中所述的纳米胶体的动力粘度为0.001～0.02N·s/m2、pH值为8～12。本发明方法适用于光学玻璃、微晶玻璃、半导体材料及单晶材料等硬脆材料的超精密、超光滑抛光，经过抛光后元件表面粗糙度小于1nm(Rms)，达到了超光滑表面的要求。
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