发明授权
CN101459182B 半导体装置
失效 - 权利终止
- 专利标题: 半导体装置
- 专利标题(英): Semiconductor device
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申请号: CN200810184399.8申请日: 2008-12-12
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公开(公告)号: CN101459182B公开(公告)日: 2010-10-20
- 发明人: 曾根弘树 , 山田明 , 白木聪 , 赤木望
- 申请人: 株式会社电装
- 申请人地址: 日本爱知县
- 专利权人: 株式会社电装
- 当前专利权人: 株式会社电装
- 当前专利权人地址: 日本爱知县
- 代理机构: 永新专利商标代理有限公司
- 代理商 陈松涛
- 优先权: 323064/2007 2007.12.14 JP; 112483/2008 2008.04.23 JP
- 主分类号: H01L27/12
- IPC分类号: H01L27/12
摘要:
本发明公开一种半导体装置。该半导体装置包括包含有源层(101)、掩埋绝缘膜(103)和支撑衬底(102)的SOI衬底(104);位于有源层(101)中且在第一基准电位下可操作的低电位基准电路部件(LV);位于有源层(101)中且在第二基准电位下可操作的高电位基准电路部件(HV);位于有源层(101)中且用于在第一和第二基准电位之间提供电平移动的电平移动元件形成部件(LS);以及使支撑衬底(102)的第一和第二部分互相绝缘的绝缘构件(130),其中所述第一和第二部分的位置分别对应于低和高电位基准电路部件(LV、HV)。
公开/授权文献
- CN101459182A 半导体装置 公开/授权日:2009-06-17
IPC分类: