发明授权
CN101459182B 半导体装置 失效 - 权利终止

半导体装置
摘要:
本发明公开一种半导体装置。该半导体装置包括包含有源层(101)、掩埋绝缘膜(103)和支撑衬底(102)的SOI衬底(104);位于有源层(101)中且在第一基准电位下可操作的低电位基准电路部件(LV);位于有源层(101)中且在第二基准电位下可操作的高电位基准电路部件(HV);位于有源层(101)中且用于在第一和第二基准电位之间提供电平移动的电平移动元件形成部件(LS);以及使支撑衬底(102)的第一和第二部分互相绝缘的绝缘构件(130),其中所述第一和第二部分的位置分别对应于低和高电位基准电路部件(LV、HV)。
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