Invention Publication
- Patent Title: 高强度光记录介质保护膜形成用溅镀靶材
- Patent Title (English): Sputtering target for forming high strength optical recording medium protection film
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Application No.: CN200780021093.4Application Date: 2007-06-08
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Publication No.: CN101460653APublication Date: 2009-06-17
- Inventor: 张守斌 , 佐佐木勇人 , 小见山昌三 , 三岛昭史
- Applicant: 三菱麻铁里亚尔株式会社
- Applicant Address: 日本东京都
- Assignee: 三菱麻铁里亚尔株式会社
- Current Assignee: 三菱麻铁里亚尔株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京都
- Agency: 中国专利代理(香港)有限公司
- Agent 吴娟; 孙秀武
- Priority: 159303/2006 2006.06.08 JP
- International Application: PCT/JP2007/061643 2007.06.08
- International Announcement: WO2007/142333 JA 2007.12.13
- Date entered country: 2008-12-08
- Main IPC: C23C14/34
- IPC: C23C14/34 ; C04B35/00 ; C04B35/10 ; C04B35/48 ; C04B35/50 ; G11B7/254 ; G11B7/257 ; G11B7/26

Abstract:
本发明提供一种高强度光记录介质保护膜形成用溅镀靶材,该溅镀靶材是通过烧结具有以%(摩尔)计含有10~70%的氧化锆或氧化铪、50%以下(不包括0%)的二氧化硅、根据需要含有0.1~8.4%的氧化钇、剩余部分包含氧化铝、氧化镧或氧化铟和不可避免的杂质的配合组成的混合粉末而形成,该靶材在靶材基质中具有生成有具Al6Si2O13、La2SiO5或In2Si2O7的组成的复合氧化物相的组织。
Public/Granted literature
- CN101460653B 高强度光记录介质保护膜形成用溅镀靶材 Public/Granted day:2011-11-16
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IPC分类: