高强度光记录介质保护膜形成用溅镀靶材
Abstract:
本发明提供一种高强度光记录介质保护膜形成用溅镀靶材,该溅镀靶材是通过烧结具有以%(摩尔)计含有10~70%的氧化锆或氧化铪、50%以下(不包括0%)的二氧化硅、根据需要含有0.1~8.4%的氧化钇、剩余部分包含氧化铝、氧化镧或氧化铟和不可避免的杂质的配合组成的混合粉末而形成,该靶材在靶材基质中具有生成有具Al6Si2O13、La2SiO5或In2Si2O7的组成的复合氧化物相的组织。
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