-
公开(公告)号：CN100471612C
公开(公告)日：2009-03-25
申请号：CN200580020823.X
申请日：2005-06-27
申请人： 三菱麻铁里亚尔株式会社
IPC分类号： B23K35/30
CPC分类号： B23K35/025 , B22F9/082 , B23K35/0244 , B23K35/30 , B23K35/3013 , C22C1/0466 , H05K3/3484
摘要： 提供一种用于制造孔穴发生少的Au-Sn合金焊膏而使用的Au-Sn合金粉末。焊膏用Au-Sn合金粉末，其含有Sn：20.5～23.5质量%，余量是由Au和不可避免的杂质构成的组成，以及具有在基材中结晶有粒径为3μm以下的微细的富Sn初晶相0.5～30面积%这样的组织。
-
公开(公告)号：CN1972778A
公开(公告)日：2007-05-30
申请号：CN200580020823.X
申请日：2005-06-27
申请人： 三菱麻铁里亚尔株式会社
IPC分类号： B23K35/30
CPC分类号： B23K35/025 , B22F9/082 , B23K35/0244 , B23K35/30 , B23K35/3013 , C22C1/0466 , H05K3/3484
摘要： 提供一种用于制造孔穴发生少的Au－Sn合金焊膏而使用的Au－Sn合金粉末。焊膏用Au－Sn合金粉末，其含有Sn：20.5～23.5质量％，余量是由Au和不可避免的杂质构成的组成，以及具有在基材中结晶有粒径为3μm以下的微细的富Sn初晶相0.5～30面积％这样的组织。
-
公开(公告)号：CN101460653A
公开(公告)日：2009-06-17
申请号：CN200780021093.4
申请日：2007-06-08
申请人： 三菱麻铁里亚尔株式会社
IPC分类号： C23C14/34 , C04B35/00 , C04B35/10 , C04B35/48 , C04B35/50 , G11B7/254 , G11B7/257 , G11B7/26
CPC分类号： C04B35/488 , C04B35/119 , C04B35/16 , C04B35/18 , C04B35/4885 , C04B2235/3225 , C04B2235/3227 , C04B2235/3244 , C04B2235/3246 , C04B2235/3286 , C04B2235/3418 , C04B2235/3463 , C04B2235/656 , C04B2235/6585 , C04B2235/77 , C04B2235/80 , C04B2235/96 , C23C14/083 , C23C14/3414 , G11B7/2578 , G11B2007/25706 , G11B2007/25708 , G11B2007/2571 , G11B2007/25715
摘要： 本发明提供一种高强度光记录介质保护膜形成用溅镀靶材，该溅镀靶材是通过烧结具有以％(摩尔)计含有10～70％的氧化锆或氧化铪、50％以下(不包括0％)的二氧化硅、根据需要含有0.1～8.4％的氧化钇、剩余部分包含氧化铝、氧化镧或氧化铟和不可避免的杂质的配合组成的混合粉末而形成，该靶材在靶材基质中具有生成有具Al6Si2O13、La2SiO5或In2Si2O7的组成的复合氧化物相的组织。
-
公开(公告)号：CN101171364A
公开(公告)日：2008-04-30
申请号：CN200680015567.X
申请日：2006-05-01
申请人： 三菱麻铁里亚尔株式会社
CPC分类号： C09K11/7728 , C23C14/3414
摘要： 本发明提供一种即使在大气中长时间放置，仍能够维持高强度的电致发光元件中的荧光体膜形成用溅射靶。其具有：Al：20～50质量％、Eu：1～10质量％、其余部分为Ba和不可避免杂质而成的组成，且具有固溶了Eu的Ba和Al的金属间化合物相构成的组织，所述固溶了Eu的Ba和Al的金属间化合物相是由BaAl4金属间化合物相与Ba7Al13金属间化合物相构成，且Eu分别固溶于所述BaAl4金属间化合物与Ba7Al13金属间化合物中的Ba的金属间化合物相。
-
公开(公告)号：CN101942644A
公开(公告)日：2011-01-12
申请号：CN201010289035.3
申请日：2006-12-28
申请人： 三菱麻铁里亚尔株式会社
CPC分类号： C23C14/3414 , C22C5/06 , C22C5/08 , C22F1/14 , C23C14/205 , G11B7/2534 , G11B7/259 , G11B7/266
摘要： 本发明涉及光记录介质用半透明反射膜和反射膜、以及用于形成这些半透明反射膜和反射膜的Ag合金溅射靶。光记录介质的半透明反射膜，其特征在于，包含银合金，该银合金具有含有0.05～1质量％的Mg、0.2～0.5质量％的Eu、余量包含Ag和不可避免杂质的组成。光记录介质的半透明反射膜形成用Ag合金溅射靶，其特征在于，包含银合金，该银合金具有含有0.05～1质量％的Mg、0.2～0.5质量％的Eu、余量包含Ag和不可避免杂质的组成。
-
公开(公告)号：CN101346491A
公开(公告)日：2009-01-14
申请号：CN200680049357.2
申请日：2006-12-28
申请人： 三菱麻铁里亚尔株式会社
CPC分类号： C23C14/3414 , C22C5/06 , C22C5/08 , C22F1/14 , C23C14/205 , G11B7/2534 , G11B7/259 , G11B7/266
摘要： 包含银合金的光记录介质用半透明反射膜和反射膜，所述银合金具有含有0.001～0.1质量％的Ca、0.05～1质量％的Mg、余量包含Ag和不可避免杂质的组成；以及包含银合金的靶，所述银合金具有含有0.001～0.1质量％的Ca、0.05～1质量％的Mg、余量包含Ag和不可避免杂质的组成；包含银合金的光记录介质的半透明反射膜，所述银合金具有下述的组成，即，含有0.05～1质量％的Mg、进而以合计0.05～1质量％的量含有Eu、Pr、Ce和Sm中的1种或者2种以上、余量包含Ag和不可避免杂质；以及光记录介质的半透明反射膜形成用Ag合金溅射靶，其包含银合金，所述银合金具有下述的组成，含有0.05～1质量％的Mg、进而以合计0.05～1质量％的量含有Eu、Pr、Ce和Sm中的1种或者2种以上、余量包含Ag和不可避免杂质。
-
公开(公告)号：CN100446102C
公开(公告)日：2008-12-24
申请号：CN03826455.2
申请日：2003-05-16
申请人： 三菱麻铁里亚尔株式会社
CPC分类号： C23C14/3414 , C23C14/14 , G11B7/26
摘要： 本发明提供的银合金溅射靶由以下银合金构成：(1)含有Zn：0.1～20质量%、Al：0.1～3质量%，剩余部为Ag的组成的银合金；(2)含有Zn：0.1～20质量%、Al：0.1～3质量%，还含有Ca、Be、Si中任选一种或两种以上的合计：0.005～0.05质量%，剩余部为Ag的组成的银合金，或者；(3)含有Cu：0.5～5质量%、Ni：0.05～2质量%，剩余部为Ag的组成的银合金。
-
公开(公告)号：CN1771547A
公开(公告)日：2006-05-10
申请号：CN03826455.2
申请日：2003-05-16
申请人： 三菱麻铁里亚尔株式会社
CPC分类号： C23C14/3414 , C23C14/14 , G11B7/26
摘要： 本发明提供的银合金溅射靶由以下银合金构成，(1)含有Zn：0.1～20质量％、Al：0.1～3质量％，剩余部为Ag的组成的银合金，(2)含有Zn：0.1～20质量％、Al：0.1～3质量％，还含有Ca、Be、Si中任选一种或两种以上的合计：0.005～0.05质量％，剩余部为Ag的组成的银合金，或者，(3)含有Cu：0.5～5质量％、Ni：0.05～2质量％，剩余部为Ag的组成的银合金。
-
公开(公告)号：CN101942644B
公开(公告)日：2013-01-02
申请号：CN201010289035.3
申请日：2006-12-28
申请人： 三菱麻铁里亚尔株式会社
CPC分类号： C23C14/3414 , C22C5/06 , C22C5/08 , C22F1/14 , C23C14/205 , G11B7/2534 , G11B7/259 , G11B7/266
摘要： 本发明涉及光记录介质用半透明反射膜和反射膜、以及用于形成这些半透明反射膜和反射膜的Ag合金溅射靶。光记录介质的半透明反射膜，其特征在于，包含银合金，该银合金具有含有0.05～1质量％的Mg、0.2～0.5质量％的Eu、余量包含Ag和不可避免杂质的组成。光记录介质的半透明反射膜形成用Ag合金溅射靶，其特征在于，包含银合金，该银合金具有含有0.05～1质量％的Mg、0.2～0.5质量％的Eu、余量包含Ag和不可避免杂质的组成。
-
公开(公告)号：CN101460653B
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：CN200780021093.4
申请日：2007-06-08
申请人： 三菱麻铁里亚尔株式会社
IPC分类号： C23C14/34 , C04B35/00 , C04B35/10 , C04B35/48 , C04B35/50 , G11B7/254 , G11B7/257 , G11B7/26
CPC分类号： C04B35/488 , C04B35/119 , C04B35/16 , C04B35/18 , C04B35/4885 , C04B2235/3225 , C04B2235/3227 , C04B2235/3244 , C04B2235/3246 , C04B2235/3286 , C04B2235/3418 , C04B2235/3463 , C04B2235/656 , C04B2235/6585 , C04B2235/77 , C04B2235/80 , C04B2235/96 , C23C14/083 , C23C14/3414 , G11B7/2578 , G11B2007/25706 , G11B2007/25708 , G11B2007/2571 , G11B2007/25715
摘要： 本发明提供一种高强度光记录介质保护膜形成用溅镀靶材，该溅镀靶材是通过烧结具有以％(摩尔)计含有10～70％的氧化锆或氧化铪、50％以下(不包括0％)的二氧化硅、根据需要含有0.1～8.4％的氧化钇、剩余部分包含氧化铝、氧化镧或氧化铟和不可避免的杂质的配合组成的混合粉末而形成，该靶材在靶材基质中具有生成有具Al6Si2O13、La2SiO5或In2Si2O7的组成的复合氧化物相的组织。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
15 条记录 (耗时 0.027 秒)
