发明公开
- 专利标题: 应用纳米胶体射流抛光元件表面的方法
- 专利标题(英): Method for polishing element surface using nano colloid jet flow
-
申请号: CN200910071276.8申请日: 2009-01-15
-
公开(公告)号: CN101462256A公开(公告)日: 2009-06-24
- 发明人: 张飞虎 , 宋孝宗 , 张勇
- 申请人: 哈尔滨工业大学
- 申请人地址: 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
- 专利权人: 哈尔滨工业大学
- 当前专利权人: 哈尔滨工业大学
- 当前专利权人地址: 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
- 代理机构: 哈尔滨市松花江专利商标事务所
- 代理商 韩末洙
- 主分类号: B24C1/04
- IPC分类号: B24C1/04 ; B24C11/00
摘要:
应用纳米胶体射流抛光元件表面的方法,它涉及一种应用胶体射流抛光元件的方法。本发明解决了现有的抛光方法难以使元件表面达到超光滑表面的要求或能达到超光滑表面的要求但加工成本过高的问题。本发明方法如下:在射流压力为0.1MPa~10MPa、喷射速度为10~200m/s的条件下将纳米胶体喷射于元件表面;其中所述的纳米胶体的动力粘度为0.001~0.02N·s/m2、pH值为8~12。本发明方法适用于光学玻璃、微晶玻璃、半导体材料及单晶材料等硬脆材料的超精密、超光滑抛光,经过抛光后元件表面粗糙度小于1nm(Rms),达到了超光滑表面的要求。
公开/授权文献
- CN101462256B 应用纳米胶体射流抛光元件表面的方法 公开/授权日:2010-12-01