发明授权
CN101567408B 光电转换装置的制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 光电转换装置的制造方法
- 专利标题(英): Method for manufacturing photoelectric conversion device
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申请号: CN200910136910.1申请日: 2009-04-24
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公开(公告)号: CN101567408B公开(公告)日: 2013-08-14
- 发明人: 加藤翔 , 鸟海聪志 , 井坂史人
- 申请人: 株式会社半导体能源研究所
- 申请人地址: 日本神奈川
- 专利权人: 株式会社半导体能源研究所
- 当前专利权人: 株式会社半导体能源研究所
- 当前专利权人地址: 日本神奈川
- 代理机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理商 许海兰
- 优先权: 2008-114744 2008.04.25 JP
- 主分类号: H01L31/18
- IPC分类号: H01L31/18 ; H01L31/036 ; H01L31/0256
摘要:
所公开的发明的目的之一在于在有效地利用有限的资源的同时安全地提供具有优越的光电转换特性的光电转换装置。在所公开的发明中,在单晶半导体衬底中形成脆化层,并且在单晶半导体衬底的一个表面上形成第一杂质半导体层、第一电极以及绝缘层;通过在将绝缘层和支撑衬底贴紧来将单晶半导体衬底和支撑衬底贴在一起后,在脆化层中分离单晶半导体衬底,形成包括第一单晶半导体层的叠层体;在第一单晶半导体层上形成第一半导体层及第二半导体层;通过固相成长,提高第一半导体层及第二半导体层的结晶度,来形成第二单晶半导体层;在第二单晶半导体层上形成具有与第一杂质半导体层相反的导电型的第二杂质半导体层;在第二杂质半导体层上形成第二电极。
公开/授权文献
- CN101567408A 光电转换装置的制造方法 公开/授权日:2009-10-28
IPC分类: