发明授权
CN101568821B 膜质评价方法及其装置、以及薄膜设备的制造系统
失效 - 权利终止
- 专利标题： 膜质评价方法及其装置、以及薄膜设备的制造系统
- 专利标题（英）： Method and apparatus for evaluating film quality and thin film device manufacturing system
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申请号： CN200780047527.8申请日： 2007-10-31
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公开(公告)号： CN101568821B公开(公告)日： 2012-12-26
- 发明人: 坂井智嗣 , 津村阳一郎 , 饭田政巳 , 川添浩平
- 申请人： 三菱重工业株式会社
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 三菱重工业株式会社
- 当前专利权人： 三菱重工业株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 中原信达知识产权代理有限责任公司
- 代理商 高培培; 车文
- 优先权： 039596/2007 2007.02.20 JP
- 国际申请： PCT/JP2007/071178 2007.10.31
- 国际公布： WO2008/102484 JA 2008.08.28
- 进入国家日期： 2009-06-22
- 主分类号： G01N21/27
- IPC分类号： G01N21/27 ; H01L21/66
摘要：
一种膜质评价方法及其装置、以及薄膜设备的制造系统，以在使作业员的负担减轻的同时使制造效率提升为目的。对薄膜硅系设备所使用的结晶质硅膜照射光，检测由结晶质硅膜反射的反射光，对检测出的反射光的辉度的参数进行计测，并根据该辉度的参数是否在预先设定的适当范围内来进行该结晶质硅膜的膜质评价。
公开/授权文献
- CN101568821A 膜质评价方法及其装置、以及薄膜设备的制造系统 公开/授权日：2009-10-28