Invention Grant
CN101584259B 层叠体、基板的制造方法、基板及半导体装置
失效 - 权利终止
- Patent Title: 层叠体、基板的制造方法、基板及半导体装置
- Patent Title (English): Multilayer body, method for producing substrate, substrate and semiconductor device
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Application No.: CN200880002467.2Application Date: 2008-01-23
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Publication No.: CN101584259BPublication Date: 2011-09-14
- Inventor: 森本纯平 , 金田研一
- Applicant: 住友电木株式会社
- Applicant Address: 日本东京都
- Assignee: 住友电木株式会社
- Current Assignee: 住友电木株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京都
- Agency: 隆天国际知识产权代理有限公司
- Agent 菅兴成; 吴小瑛
- Priority: 018555/2007 2007.01.29 JP
- International Application: PCT/JP2008/050889 2008.01.23
- International Announcement: WO2008/093579 JA 2008.08.07
- Date entered country: 2009-07-17
- Main IPC: H05K3/46
- IPC: H05K3/46 ; B32B15/08 ; C08J5/24 ; H01L23/12 ; H01L23/14 ; H05K3/00

Abstract:
本发明提供一种层叠体(10),其具有树脂层(2)和金属层(3),该树脂层(2)内置有用纤维基材构成的芯部(1),该金属层(3)在上述树脂层的一个表面上接合,其中,上述纤维基材的厚度在25μm以下,上述金属层具有对应于在上述树脂层上形成的导通孔的开口部(31)。本发明还提供一种基板的制造方法,其包括用激光(9)照射上述的层叠体在上述树脂层上形成导通孔(23)的工序、在上述导通孔形成后从上述层叠体除去上述金属层的工序。本发明还提供一种基板(100),其通过上述制造方法制得。本发明还提供一种半导体装置(12),其是在上述的基板上搭载半导体元件(121)而成。
Public/Granted literature
- CN101584259A 层叠体、基板的制造方法、基板及半导体装置 Public/Granted day:2009-11-18
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