发明授权
- 专利标题: 自动产生集成电路布局的方法
- 专利标题(英): Place-and-route layout method with same footprint cells
-
申请号: CN200910126096.5申请日: 2009-03-10
-
公开(公告)号: CN101661524B公开(公告)日: 2012-08-29
- 发明人: 鲁立忠 , 王中兴 , 李秉中 , 戴春晖 , 田丽钧 , 张广兴
- 申请人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路8号
- 专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路8号
- 代理机构: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司
- 代理商 寿宁; 张华辉
- 优先权: 12/199,617 2008.08.27 US
- 主分类号: G06F17/50
- IPC分类号: G06F17/50
摘要:
本发明是有关于自动产生集成电路布局的方法。该方法包括决定第一元件高度;制作具有第一元件高度的多个标准元件;以及藉由置放与绕线标准元件以从标准元件中产生集成电路布局,其中产生集成电路布局的步骤包括:应用标记层来标示出特定元件,以制作一过渡布局;以及使用至少一逻辑操作于由过渡布局撷取出的一资料库中,借此制造所需的多个布局变化,进而产生一最终集成电路布局,其中该些布局变化包含加宽一特定元件的晶体管通道长度,及在最终集成电路布局中设置虚拟结构。藉由本发明,可改善集成电路布局面积的利用,同时由于元件的设置可被网格化,所以元件能够轻易地替换,且由于元件间的接点对齐,使得元件间的线路内连结更容易。
公开/授权文献
- CN101661524A 自动产生集成电路布局的方法 公开/授权日:2010-03-03