发明公开
CN101750409A 一种测量溴化铊材料中杂质含量的方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种测量溴化铊材料中杂质含量的方法
- 专利标题(英): Method for measuring impurity content in thallium bromide material
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申请号: CN200910273200.3申请日: 2009-12-14
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公开(公告)号: CN101750409A公开(公告)日: 2010-06-23
- 发明人: 周东祥 , 郑志平 , 龚树萍 , 蒙芳 , 胡云香
- 申请人: 华中科技大学
- 申请人地址: 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
- 专利权人: 华中科技大学
- 当前专利权人: 华中科技大学
- 当前专利权人地址: 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
- 代理机构: 华中科技大学专利中心
- 代理商 曹葆青
- 主分类号: G01N21/73
- IPC分类号: G01N21/73 ; G01N1/34
摘要:
本发明公开了一种测量溴化铊材料中杂质含量的方法,其特征在于,该方法包括下述步骤为:第1步以TlBr为原料,配制Tl(III)的母液,母液中含Tl(III)量为1~3mg/mL;第2步以母液1mL计,在1mL母液中加入10mL浓度为3.6~8.1mol/L的HBr和10~35mL的异丙醚,振荡均匀,静置分层后分离出水相;第3步利用电感耦合等离子体质谱仪测量水相中各杂质的含量。本发明方法可使溴化铊材料中的基体元素铊的含量达到ICP-MS的测试要求,检测出材料中的各杂质的含量。
公开/授权文献
- CN101750409B 一种测量溴化铊材料中杂质含量的方法 公开/授权日:2012-05-23