发明公开
CN101772840A 形成低电阻接触的方法
无效 - 驳回
- 专利标题: 形成低电阻接触的方法
- 专利标题(英): Method to make low resistance contact
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申请号: CN200880020116.4申请日: 2008-06-10
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公开(公告)号: CN101772840A公开(公告)日: 2010-07-07
- 发明人: 朱振甫 , 刘文煌 , 朱俊宜 , 郑兆祯 , 郑好钧 , 樊峰旭 , 段忠
- 申请人: 旭明光电股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾苗栗县
- 专利权人: 旭明光电股份有限公司
- 当前专利权人: 旭明光电股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾苗栗县
- 代理机构: 北京三友知识产权代理有限公司
- 代理商 任默闻
- 优先权: 11/761,897 2007.06.12 US
- 国际申请: PCT/US2008/066378 2008.06.10
- 国际公布: WO2008/154526 EN 2008.12.18
- 进入国家日期: 2009-12-14
- 主分类号: H01L23/48
- IPC分类号: H01L23/48
摘要:
本发明提供在半导体元件的GaN层的反转结构表面上制造接触的技术。可形成具有藉由移除一基板而外露之表面的一n-掺杂GaN层,该n-掺杂GaN层原本形成于该基板上。此一表面的晶体结构可具有非常不同于刚沉积的p-掺杂GaN的表面的结构。
IPC分类: