• 专利标题: LiNbO3/SiO2/金刚石多层压电膜及其制备方法
  • 专利标题(英): LiNbO3/SiO2/diamond multilayer piezoelectric film and preparation method thereof
  • 申请号: CN201010030152.8
    申请日: 2010-01-12
  • 公开(公告)号: CN101777622A
    公开(公告)日: 2010-07-14
  • 发明人: 王新昌田四方王俊喜贾建峰
  • 申请人: 郑州大学
  • 申请人地址: 河南省郑州市高新技术开发区科学大道100号
  • 专利权人: 郑州大学
  • 当前专利权人: 郑州大学
  • 当前专利权人地址: 河南省郑州市高新技术开发区科学大道100号
  • 代理机构: 郑州天阳专利事务所
  • 代理商 聂孟民
  • 主分类号: H01L41/083
  • IPC分类号: H01L41/083 H01L41/22
LiNbO3/SiO2/金刚石多层压电膜及其制备方法
摘要:
本发明涉及LiNbO3/SiO2/金刚石多层压电膜及其制备方法,有效解决SAW器件的温度稳定性和高c轴取向LiNbO3薄膜制备问题,技术方案是,在金刚石衬底和LiNbO3压电薄膜之间引入非晶SiO2缓冲层,其制备方法是,首先在金刚石衬底上以硅作靶材,用脉冲激光沉积法将非晶SiO2沉积在金刚石衬底上,构成非晶SiO2缓冲层;再将制备好的非晶SiO2/金刚石衬底升温,以LiNbO3为靶材,用脉冲激光将LiNbO3沉积在非晶SiO2缓冲层上,构成LiNbO3压电薄膜层和金刚石衬底之间有非晶SiO2缓冲层的复合压电薄膜;LiNbO3压电薄膜层沉积后,降温至18-25℃,本发明结构简单,方法先进、科学,提高SAW器件工作频率,温度稳定性高。
公开/授权文献
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