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发明公开
CN101785368A 辐射源 有权

辐射源
摘要：
一种辐射源，包括腔和用于产生等离子体的物质的供给装置，所述源具有相互作用点，在该相互作用点处，被引入到所述腔中的所述用于产生等离子体的物质可以与激光束相互作用，并且因此产生辐射发射等离子体，其中所述源进一步包括被布置以将缓冲气体传递到所述腔中的导管，所述导管具有邻近所述相互作用点处的出口。
摘要（英）：

A radiation source comprising a chamber and a supply of a plasma generating substance, the source having an interaction point at which the plasma generating substance introduced into the chamber may interact with a laser beam and thereby produce a radiation emitting plasma, wherein the source further comprises a conduit arranged to deliver a buffer gas into the chamber, the conduit having an outlet which is adjacent to the interaction point.

公开/授权文献
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