辐射源
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101785368B

    公开(公告)日:2013-01-02

    申请号:CN200880103732.6

    申请日:2008-08-20

    IPC分类号: H05G2/00

    CPC分类号: H05G2/003 H05G2/008

    摘要: 一种辐射源,包括腔和用于产生等离子体的物质的供给装置,所述源具有相互作用点,在该相互作用点处,被引入到所述腔中的所述用于产生等离子体的物质可以与激光束相互作用,并且因此产生辐射发射等离子体,其中所述源进一步包括被布置以将缓冲气体传递到所述腔中的导管,所述导管具有邻近所述相互作用点处的出口。

    辐射源
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101785368A

    公开(公告)日:2010-07-21

    申请号:CN200880103732.6

    申请日:2008-08-20

    IPC分类号: H05G2/00

    CPC分类号: H05G2/003 H05G2/008

    摘要: 一种辐射源,包括腔和用于产生等离子体的物质的供给装置,所述源具有相互作用点,在该相互作用点处,被引入到所述腔中的所述用于产生等离子体的物质可以与激光束相互作用,并且因此产生辐射发射等离子体,其中所述源进一步包括被布置以将缓冲气体传递到所述腔中的导管,所述导管具有邻近所述相互作用点处的出口。