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公开(公告)号:CN104093259B
公开(公告)日:2017-01-11
申请号:CN201410225307.1
申请日:2009-03-20
申请人: ASML荷兰有限公司
IPC分类号: H05G2/00
摘要: 本发明公开了一种靶材、源、EUV光刻设备和使用该设备的器件制造方法。所述靶材被配置成用于被构造且被布置以产生具有在6.8nm范围内的波长的辐射束的源中。靶材包括被配置以改变Gd的熔化温度的基于Gd的合成物,或Tb,或被配置以减小Tb的熔化温度的基于Tb的合成物。
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公开(公告)号:CN101978791A
公开(公告)日:2011-02-16
申请号:CN200980109474.7
申请日:2009-03-20
申请人: ASML荷兰有限公司
IPC分类号: H05G2/00
摘要: 一种靶材被配置成用于被构造且被布置以产生具有在6.8nm范围内的波长的辐射束的源中。靶材包括被配置以改变Gd的熔化温度的基于Gd的合成物,或Tb,或被配置以减小Tb的熔化温度的基于Tb的合成物。
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公开(公告)号:CN101978791B
公开(公告)日:2014-06-25
申请号:CN200980109474.7
申请日:2009-03-20
申请人: ASML荷兰有限公司
IPC分类号: H05G2/00
摘要: 一种靶材被配置成用于被构造且被布置以产生具有在6.8nm范围内的波长的辐射束的源中。靶材包括被配置以改变Gd的熔化温度的基于Gd的合成物,或Tb,或被配置以减小Tb的熔化温度的基于Tb的合成物。
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公开(公告)号:CN101779524B
公开(公告)日:2012-12-05
申请号:CN200880102398.2
申请日:2008-08-05
申请人: ASML荷兰有限公司
IPC分类号: H05G2/00
CPC分类号: H05H1/24 , B82Y10/00 , G03F7/70033 , H05G2/003
摘要: 一种光刻系统包括:被配置以产生辐射的源,该源包括阴极和阳极,阴极和阳极被配置以在位于放电空间中的燃料中产生放电,以便产生等离子体,所述放电空间包括在使用中被配置以调整等离子体的辐射发射的物质,以便控制等离子体限定的体积;图案支撑件,其被配置以保持图案形成装置,该图案形成装置被配置以使辐射形成图案,以形成图案化的辐射束;衬底支撑件,其被配置以支撑衬底;以及投影系统,其被配置以将图案化的辐射束投影到衬底上。
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公开(公告)号:CN102144192A
公开(公告)日:2011-08-03
申请号:CN200980134829.8
申请日:2009-04-30
申请人: ASML荷兰有限公司
CPC分类号: G03F7/70916 , G03F7/70175 , G03F7/70858 , G03F7/70983 , H05G2/003 , H05G2/005
摘要: 一种辐射系统,配置成产生辐射束。所述辐射系统包括:辐射源(50),配置成产生发射辐射和碎片的等离子体;辐射收集器(70),配置成引导所收集的辐射至辐射束发射孔(60)。磁场产生装置(200)配置成产生具有磁场强度梯度的磁场,以将等离子体引导离开辐射收集器(70)。
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公开(公告)号:CN101438631B
公开(公告)日:2011-05-11
申请号:CN200780016104.X
申请日:2007-04-27
申请人: ASML荷兰有限公司
CPC分类号: H05G2/003 , B82Y10/00 , G03F7/70033 , H05G2/005
摘要: 本发明公开了一种通过电操作放电产生辐射的设备,所述设备具有第一电极(喷嘴21a产生)、第二电极和电容器组(24)。该电极被彼此间隔一定距离配置以便允许等离子体激发。该电容器组的第一终端(A)电连接到该第一电极而第二终端(B)电连接到该第二电极,并被配置成存储放电能量。该电极和电容器组组成电路。至少该第一电极通过经由第一馈送管线(45)提供的电传导流体形成。该设备还具有充电器(51)和第一高电感单元(50)。该充电器连接到所述终端中的至少一个。该第一高电感单元被设置在该第一馈送管线中的该第一终端上游以电解耦该电路。
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公开(公告)号:CN104714374A
公开(公告)日:2015-06-17
申请号:CN201510142259.4
申请日:2009-04-30
申请人: ASML荷兰有限公司
CPC分类号: G03F7/70916 , G03F7/70175 , G03F7/70858 , G03F7/70983 , H05G2/003 , H05G2/005
摘要: 一种辐射系统,配置成产生辐射束。所述辐射系统包括:辐射源(50),配置成产生发射辐射和碎片的等离子体;辐射收集器(70),配置成引导所收集的辐射至辐射束发射孔(60)。磁场产生装置(200)配置成产生具有磁场强度梯度的磁场,以将等离子体引导离开辐射收集器(70)。
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公开(公告)号:CN104093259A
公开(公告)日:2014-10-08
申请号:CN201410225307.1
申请日:2009-03-20
申请人: ASML荷兰有限公司
IPC分类号: H05G2/00
摘要: 本发明公开了一种靶材、源、EUV光刻设备和使用该设备的器件制造方法。所述靶材被配置成用于被构造且被布置以产生具有在6.8nm范围内的波长的辐射束的源中。靶材包括被配置以改变Gd的熔化温度的基于Gd的合成物,或Tb,或被配置以减小Tb的熔化温度的基于Tb的合成物。
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公开(公告)号:CN101690419B
公开(公告)日:2013-06-05
申请号:CN200880024087.9
申请日:2008-07-28
申请人: ASML荷兰有限公司
IPC分类号: H05G2/00
CPC分类号: H05G2/003 , B82Y10/00 , G03F7/70033 , H05G2/005
摘要: 本发明公开了配置以产生用于光刻设备的辐射的源。所述源包括阳极和阴极。阴极和阳极被配置以在阳极和阴极之间的放电空间中的燃料中产生放电,以便产生等离子体,阴极和阳极彼此相对地定位,使得在使用中在阳极和阴极之间延伸的电流线大致弯曲,以便产生大致径向地压缩仅在阴极或阳极的上表面附近的区域中的等离子体的力。
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公开(公告)号:CN101779524A
公开(公告)日:2010-07-14
申请号:CN200880102398.2
申请日:2008-08-05
申请人: ASML荷兰有限公司
IPC分类号: H05G2/00
CPC分类号: H05H1/24 , B82Y10/00 , G03F7/70033 , H05G2/003
摘要: 一种光刻系统包括:被配置以产生辐射的源,该源包括阴极和阳极,阴极和阳极被配置以在位于放电空间中的燃料中产生放电,以便产生等离子体,所述放电空间包括在使用中被配置以调整等离子体的辐射发射的物质,以便控制等离子体限定的体积;图案支撑件,其被配置以保持图案形成装置,该图案形成装置被配置以使辐射形成图案,以形成图案化的辐射束;衬底支撑件,其被配置以支撑衬底;以及投影系统,其被配置以将图案化的辐射束投影到衬底上。
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