Invention Grant
- Patent Title: 具有非晶半绝缘沟道控制层的晶体管部件
- Patent Title (English): Transistor component having an amorphous semi-isolating channel control layer
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Application No.: CN201010207331.4Application Date: 2010-06-17
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Publication No.: CN101931006BPublication Date: 2013-03-13
- Inventor: G·施米特
- Applicant: 英飞凌科技奥地利有限公司
- Applicant Address: 奥地利菲拉赫
- Assignee: 英飞凌科技奥地利有限公司
- Current Assignee: 英飞凌科技奥地利有限公司
- Current Assignee Address: 奥地利菲拉赫
- Agency: 中国专利代理(香港)有限公司
- Agent 李娜; 王忠忠
- Priority: 12/486471 2009.06.17 US
- Main IPC: H01L29/78
- IPC: H01L29/78 ; H01L29/10 ; H01L29/165

Abstract:
本发明涉及具有非晶半绝缘沟道控制层的晶体管部件。公开一种具有控制结构的晶体管部件,该控制结构具有在电流流动方向上沿沟道区延伸的非晶半绝缘材料沟道控制层。
Public/Granted literature
- CN101931006A 具有非晶半绝缘沟道控制层的晶体管部件 Public/Granted day:2010-12-29
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IPC分类: