发明授权
CN102115879B 基板处理装置
失效 - 权利终止
- 专利标题： 基板处理装置
- 专利标题（英）： Substrate processing apparatus
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申请号： CN201010612966.2申请日： 2010-12-30
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公开(公告)号： CN102115879B公开(公告)日： 2013-06-26
- 发明人: 孙亨圭
- 申请人： 丽佳达普株式会社
- 申请人地址： 韩国京畿道
- 专利权人： 丽佳达普株式会社
- 当前专利权人： 丽佳达普株式会社
- 当前专利权人地址： 韩国京畿道
- 代理机构： 北京鸿元知识产权代理有限公司
- 代理商 陈英俊
- 优先权： 10-2009-0136231 2009.12.31 KR; 10-2010-0130209 2010.12.17 KR
- 主分类号： C23C16/44
- IPC分类号： C23C16/44 ; C23C16/505 ; C23C16/513
摘要：
本发明提供一种基板处理装置，该基板处理装置在腔室的外部(大气中)和内部(真空环境)分别具备天线，并且腔室外部的天线配置在中央部，腔室内部的天线配置成靠近腔室的墙面侧。因此，能够整体上均匀地形成等离子体，同时能够提高等离子体的密度，具有提高基板处理效率的效果。
公开/授权文献
- CN102115879A 基板处理装置 公开/授权日：2011-07-06
IPC分类:
