发明授权
CN102243978B 用于多靶溅射系统的电源装置
失效 - 权利终止
- 专利标题： 用于多靶溅射系统的电源装置
- 专利标题（英）： Power source arrangement for multiple-target sputtering system
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申请号： CN201110132325.1申请日： 2008-02-19
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公开(公告)号： CN102243978B公开(公告)日： 2014-07-30
- 发明人: T·布鲁克 , P·沃德 , M·巴尔奈斯
- 申请人： 因特瓦克公司
- 申请人地址： 美国加利福尼亚
- 专利权人： 因特瓦克公司
- 当前专利权人： 因特瓦克公司
- 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚
- 代理机构： 永新专利商标代理有限公司
- 代理商 陈松涛; 夏青
- 优先权： 60/890,243 2007.02.16 US
- 分案原申请号： 2008800086452 2008.02.19
- 主分类号： H01J37/34
- IPC分类号： H01J37/34 ; H01J37/32
摘要：
一种用于同时为多个溅射源供电的装置。电源耦合到电荷累计器。所述电荷累计器经由开关装置耦合到几个溅射源。每一个开关装置的占空比用来单独控制传输到每一个溅射源的功率。在另一个装置中，电源耦合到阻抗匹配电路。所述阻抗匹配电路经由几个平衡元件耦合到几个溅射源。操作每一个平衡元件以单独控制传输到所述溅射源的功率。
公开/授权文献
- CN102243978A 用于多靶溅射系统的电源装置 公开/授权日：2011-11-16