发明授权
- 专利标题: 真空加热装置、真空加热处理方法
- 专利标题(英): Vacuum heating device, vacuum heat treatment method
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申请号: CN201080009467.2申请日: 2010-02-26
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公开(公告)号: CN102334178B公开(公告)日: 2014-03-05
- 发明人: 吉元刚 , 山根克己 , 大野哲宏 , 沟口贵浩
- 申请人: 株式会社爱发科
- 申请人地址: 日本神奈川县
- 专利权人: 株式会社爱发科
- 当前专利权人: 株式会社爱发科
- 当前专利权人地址: 日本神奈川县
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 王岳; 王忠忠
- 优先权: 2009-046314 2009.02.27 JP
- 国际申请: PCT/JP2010/053042 2010.02.26
- 国际公布: WO2010/098427 JA 2010.09.02
- 进入国家日期: 2011-08-26
- 主分类号: H05B6/00
- IPC分类号: H05B6/00
摘要:
本发明中,即使由并联连接的加热灯构成的负载为3的倍数以外个,也能够以在一次侧没有负担的方式均等地施加电压。在负载(65)中,分为3的倍数的个数和2的倍数的个数,将三个一次绕组进行Y接线或△接线并施加三相交流电压,在多个三相变压器内的与一次绕组分别磁耦合的同一匝数的二次绕组(42)上连接3的倍数个数的负载,在斯科特变压器内的将M座一次绕组的匝数二分割的中点,连接M座一次绕组的()/2倍的匝数的T座一次绕组的一端并施加三相交流电压,在一个以上的斯科特变压器内的与M座一次绕组和T座一次绕组分别磁耦合的相同匝数的二次绕组(42)上,连接2的倍数的负载,不会出现未连接有负载(65)的二次绕组(42)。能够不增大一次侧的负担地对加热灯(15)均等地施加交流电压。
公开/授权文献
- CN102334178A 真空加热装置、真空加热处理方法 公开/授权日:2012-01-25