发明公开
CN102422399A 多阶段基板清洁方法和装置
失效 - 权利终止
- 专利标题: 多阶段基板清洁方法和装置
- 专利标题(英): Multi-stage substrate cleaning method and apparatus
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申请号: CN201080020563.7申请日: 2010-05-10
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公开(公告)号: CN102422399A公开(公告)日: 2012-04-18
- 发明人: 阿诺德·霍洛坚科 , 卡特里娜·米哈利钦科 , 林成渝(肖恩) , 马克·威尔考克森 , 利昂·金兹伯格 , 马克·卡瓦古奇
- 申请人: 朗姆研究公司
- 申请人地址: 美国加利福尼亚州
- 专利权人: 朗姆研究公司
- 当前专利权人: 朗姆研究公司
- 当前专利权人地址: 美国加利福尼亚州
- 代理机构: 上海胜康律师事务所
- 代理商 李献忠
- 优先权: 12/465,594 2009.05.13 US
- 国际申请: PCT/US2010/034264 2010.05.10
- 国际公布: WO2010/132371 EN 2010.11.18
- 进入国家日期: 2011-11-10
- 主分类号: H01L21/302
- IPC分类号: H01L21/302
摘要:
对基板的表面进行清洁材料的第一施加。清洁材料包含用于捕获存在所述基板的表面上的污染物的一种或一种以上粘弹性材料。对所述基板的表面进行冲洗流体的第一施加,从而冲洗所述基板的表面上的清洁材料。同时,执行冲洗流体的第一施加,以在所述基板的表面上留下冲洗流体的残留薄膜。对于其上具有冲洗流体的残留薄膜的基板的表面进行清洁材料的第二施加。然后,对所述基板的表面进行冲洗流体的第二施加,从而冲洗所述基板的表面上的清洁材料。
公开/授权文献
- CN102422399B 多阶段基板清洁方法和装置 公开/授权日:2015-09-09
IPC分类: