发明公开
- 专利标题： 扩散剂组合物及杂质扩散层的形成方法
- 专利标题（英）： Diffusing agent composition, and method for forming an impurity diffusion layer
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申请号： CN201110365158.5申请日： 2011-11-11
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公开(公告)号： CN102468439A公开(公告)日： 2012-05-23
- 发明人: 森田敏郎 , 神园乔
- 申请人： 东京应化工业株式会社
- 申请人地址： 日本神奈川县
- 专利权人： 东京应化工业株式会社
- 当前专利权人： 东京应化工业株式会社
- 当前专利权人地址： 日本神奈川县
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 蒋亭
- 优先权： 2010-253234 2010.11.11 JP
- 主分类号： H01L51/00
- IPC分类号： H01L51/00 ; H01L31/18 ; H01L21/225
摘要：
本发明提供扩散剂组合物，该扩散剂组合物含有缩合产物(A)和杂质扩散成分(B)。缩合产物(A)是水解烷氧基硅烷而得到的反应产物。杂质扩散成分(B)是磷酸单酯、磷酸二酯或它们的混合物。
公开/授权文献
- CN102468439B 扩散剂组合物及杂质扩散层的形成方法 公开/授权日：2015-09-30
IPC分类:
