Invention Grant
- Patent Title: 电路连接用粘接膜以及电路连接结构体
- Patent Title (English): Circuit connecting adhesion film and circuit connecting structure
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Application No.: CN201180002362.9Application Date: 2011-01-06
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Publication No.: CN102474025BPublication Date: 2014-05-07
- Inventor: 立泽贵 , 小林宏治 , 关耕太郎
- Applicant: 日立化成株式会社
- Applicant Address: 日本东京都千代田区丸内一丁目9番2号
- Assignee: 日立化成株式会社
- Current Assignee: 株式会社力森诺科
- Current Assignee Address: 日本东京都千代田区丸内一丁目9番2号
- Agency: 北京银龙知识产权代理有限公司
- Agent 金鲜英; 刘强
- Priority: 2010-002891 2010.01.08 JP
- International Application: PCT/JP2011/050125 2011.01.06
- International Announcement: WO2011/083824 JA 2011.07.14
- Date entered country: 2011-12-07
- Main IPC: H01R11/01
- IPC: H01R11/01 ; C09J4/00 ; C09J7/00 ; C09J9/02 ; C09J11/04 ; C09J201/00 ; H01L21/60 ; H05K1/14 ; H05K3/32

Abstract:
本发明涉及一种电路连接用粘接膜,其特征在于至少具有粘接剂层A和粘接剂层B,并且粘接剂层A是含有规定的粘接剂成分3a和导电粒子5的各向异性导电层11,粘接剂层B是含有规定的粘接剂成分3a的绝缘层12,粘接剂层A的厚度是该粘接剂层A中含有的导电粒子的平均粒径的0.3~1.5倍,在所述电路基板中,至少一方的电路基板的电路间距为40μm以下。
Public/Granted literature
- CN102474025A 电路连接用粘接膜以及电路连接结构体 Public/Granted day:2012-05-23
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