- 专利标题: 用于光刻机中的掩模版固定装置及掩模版固定方法
- 专利标题(英): Mask fixing device and mask fixing method used in lithography machine
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申请号: CN201010618751.1申请日: 2010-12-31
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公开(公告)号: CN102540779A公开(公告)日: 2012-07-04
- 发明人: 黎刚生 , 顾鲜红 , 范哲光
- 申请人: 上海微电子装备有限公司
- 申请人地址: 上海市浦东新区上海市张东路1525号
- 专利权人: 上海微电子装备有限公司
- 当前专利权人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市浦东新区上海市张东路1525号
- 代理机构: 上海思微知识产权代理事务所
- 代理商 屈蘅; 李时云
- 主分类号: G03F9/00
- IPC分类号: G03F9/00 ; G03F7/20
摘要:
本发明提供一种用于光刻机中的掩模版固定装置及掩模版固定方法,采用柔性机构同电磁方法相配合吸附掩模版,控制简单,只要通过开关电流就可以控制掩模版吸附和脱离,本发明可保证在掩模版被吸附过程中不变形,满足高端光刻机的高精度定位的要求。同时避免了因真空漏气等原因引起的一系列加工难题,方便易控,节约成本。
公开/授权文献
- CN102540779B 用于光刻机中的掩模版固定装置及掩模版固定方法 公开/授权日:2015-01-21