发明公开
CN102598139A 具有非欧姆选择层的非易失性存储单元
失效 - 权利终止
- 专利标题: 具有非欧姆选择层的非易失性存储单元
- 专利标题(英): Non-volatile memory cell with non-ohmic selection layer
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申请号: CN201080032406.8申请日: 2010-07-09
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公开(公告)号: CN102598139A公开(公告)日: 2012-07-18
- 发明人: T·伟 , J·印斯克 , V·文努戈帕兰 , X·海文 , T·麦克尔 , L·布莱恩
- 申请人: 希捷科技有限公司
- 申请人地址: 美国明尼苏达州
- 专利权人: 希捷科技有限公司
- 当前专利权人: 希捷科技有限公司
- 当前专利权人地址: 美国明尼苏达州
- 代理机构: 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 钱慰民
- 优先权: 12/502,222 2009.07.13 US
- 国际申请: PCT/US2010/041555 2010.07.09
- 国际公布: WO2011/008654 EN 2011.01.20
- 进入国家日期: 2012-01-12
- 主分类号: G11C11/16
- IPC分类号: G11C11/16 ; G11C13/02 ; H01L27/24
摘要:
披露一种包含非欧姆选择层的非易失性存储单元和关联的方法。根据一些实施例,非易失性存储单元由耦合于非欧姆选择层的阻性感测元件(RSE)构成。选择层被配置成响应大于或等于预定阈值的电流从第一阻态转变至第二阻态。
公开/授权文献
- CN102598139B 具有非欧姆选择层的非易失性存储单元 公开/授权日:2015-01-14