发明授权
- 专利标题： 图案形成用树脂组合物、图案形成方法及发光元件的制造方法
- 专利标题（英）： Resin composition for formation of pattern, pattern formation method, and process for production of light-emitting element
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申请号： CN201080031490.1申请日： 2010-05-12
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公开(公告)号： CN102741988B公开(公告)日： 2014-12-10
- 发明人: 浅川钢儿 , 北川良太 , 藤本明 , 白江良章 , 赖末友裕 , 池田章彦
- 申请人： 株式会社东芝 , 旭化成电子材料株式会社
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 株式会社东芝,旭化成电子材料株式会社
- 当前专利权人： 株式会社东芝,旭化成株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 北京林达刘知识产权代理事务所
- 代理商 刘新宇; 李茂家
- 优先权： 2009-116885 2009.05.13 JP
- 国际申请： PCT/JP2010/058050 2010.05.12
- 国际公布： WO2010/131680 JA 2010.11.18
- 进入国家日期： 2012-01-12
- 主分类号： H01L21/312
- IPC分类号： H01L21/312 ; C08F297/00 ; C08L25/02 ; C08L33/06 ; C08L53/00 ; H01L21/3065 ; H01L33/22
摘要：
本发明提供能够直至光的波长程度稳定地形成图案的图案形成用树脂组合物、使用了该组合物的海岛结构图案的形成方法及实现高发光效率特性的发光元件的制造方法。一种图案形成用树脂组合物，其是包含(a)包含含芳香环的聚合物和聚(甲基)丙烯酸酯作为嵌段部分的规定的嵌段共聚物；(b)规定的含芳香环的聚合物的均聚物；以及(c)规定的聚(甲基)丙烯酸酯的均聚物的图案形成用树脂组合物，其中，含芳香环的均聚物(b)和聚(甲基)丙烯酸酯均聚物(c)的总量相对于该树脂组合物整体的质量比为0质量％～90质量％，并且该嵌段共聚物(a)中作为嵌段部分所含的含芳香环的聚合物部分和含芳香环的均聚物(b)的总量相对于该树脂组合物整体的质量比为10质量％～60质量％。
公开/授权文献
- CN102741988A 图案形成用树脂组合物、图案形成方法及发光元件的制造方法 公开/授权日：2012-10-17